金属钛表面TiO2纳米管磷灰石复合涂层的制备与生物活性分析-生物医学工程专业论文.docxVIP

金属钛表面TiO2纳米管磷灰石复合涂层的制备与生物活性分析-生物医学工程专业论文.docx

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I I 独创性声明 本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作 及取得的研究成果。据我所知,除了文中特别加以标注和致谢的地方外, 论文中不包含其他人已经发表或撰写过的研究成果,也不包含为获得 电子科技大学或其它教育机构的学位或证书而使用过的材料。与我一 同工作的同志对本研究所做的任何贡献均已在论文中作了明确的说明 并表示谢意。 作者签名: 日期: 年 月 日 论文使用授权 本学位论文作者完全了解电子科技大学有关保留、使用学位论文 的规定,有权保留并向国家有关部门或机构送交论文的复印件和磁盘, 允许论文被查阅和借阅。本人授权电子科技大学可以将学位论文的全 部或部分内容编入有关数据库进行检索,可以采用影印、缩印或扫描等 复制手段保存、汇编学位论文。 (保密的学位论文在解密后应遵守此规定) 作者签名: 导师签名: 日期: 年 月 日 摘要 摘要 摘要 摘要 I I II II 摘 要 钛及钛合金目前常作为整形外科和其它生物植入体材料,因为具有优异的力 学性能而常用于需要力承载部位的植入体材料。钛表面的氧化物赋予了其生物相 容性。但金属钛本身具有较低的骨传导性和抗腐蚀性的缺点,为了使金属钛获得更 优异的生物学性能,不同表面改善技术被用来改善其性能,来满足实际应用的需求。 羟基磷灰石(Ca10(PO4)6(OH)2,HA)目前常用于生物医学植入体的涂层材料,其 化学组成和自然骨的无机成分相似,具有优异的生物相容性。为了促进 HA 的成核 生长和增强涂层与基底的结合强度,TiO2 纳米管层通过在含氟溶液中阳极氧化制 得。本文在 TiO2 纳米管层表面通过电化学沉积法制备 HA 涂层,为了提高 HA 涂 层的生物活性,Mg2+和明胶功能化氧化石墨烯(GelGO)被掺杂入 HA 涂层中,同 时为了提高 HA 涂层的抗菌性,Ag 和壳聚糖(CS)被成功掺入到 HA 涂层。利用 X 射线衍射谱仪(XRD),X 射线光电子能谱仪(XPS),傅里叶红外光谱仪(FTIR), 扫描电子显微镜(SEM)和电子能谱仪(EDS)对所制得的 MgHA 复合涂层, GelGOHA 复合涂层,AgHA 复合涂层和 CSAgHA 复合涂层进行表面形貌和成分 结构表征。同时也研究了复合涂层的力学性能,抗腐蚀性和生物相容性。 通过阳极氧化法在纯钛片表面制备 TiO2 纳米管。结果表明在阳极氧化电压为 20V 时,制备的 TiO2 纳米管阵列管径为 100nm,排列均匀;当以 350°C 热处理 2h 后,TiO2 晶型主要为锐钛矿;TiO2 纳米管的建立提高了钛基底的腐蚀电阻。通过 电化学沉积法在 TiO2 纳米管表面成功沉积了 HA 涂层,涂层为多孔针状结构,提 高了生物相容性,利于成骨细胞粘附。另外,这种制备 HA/TiO2 复合涂层的方法同 样适用于 Ti 螺钉。 通过电化学方法在 TiO2 纳米管表面成功制备掺镁羟基磷灰石(MgHA)复合 涂层。结果显示 Mg 均匀分布在涂层中,涂层厚度为 21.2±1.7μm。Mg2+进入到 HA 晶格中,部分替代 Ca2+的位置,降低了磷灰石结晶度,结合强度有微弱提高。在模 拟体液中浸泡和极化曲线测试实验表明涂层的生物活性和耐腐蚀性都被提高了; MC3T3-E1 成骨细胞培养实验表明,Mg 的掺杂没有细胞毒性,且具有良好的生物 相容性。 明胶功能化氧化石墨烯作为一种功能添加物,首次通过电化学阴极沉积法与 HA 共同沉积到 TiO2 纳米管表面,成功制备 GelGOHA/TiO2 复合涂层。通过 FTIR 光谱和 XPS 分析,证实了 GelGO 被成功地掺杂到 HA 涂层中;FESEM 观察 GelGOHA 复合涂层的形貌发现,掺杂 GelGO 后,涂层呈现多孔网状结构,且涂层 厚度为 24.2±1.5μm,高于 HA 涂层的厚度,说明 GelGO 能够促进 HA 的成核生长; 结合强度测试结果显示 GelGOHA 复合涂层的强度约为 18.5MPa,这是由于 GelGO 复合物的添加,提高了 HA 涂层的韧性;GelGOHA 复合涂层由于具有致密的网状 结构形貌,表现出良好的抗腐蚀性;同时 MC3T3-E1 细胞实验表明,GelGO 的掺 杂能够提高 HA 涂层的生物活性和生物相容性。 在阳极氧化处理后的 Ti 片上采用电化学沉积法制备 Ag+掺杂 HA 涂层,XRD 衍射谱图结果表明 Ag+成功地进入 HA 晶格中,并替换了部分 Ca2+,引起晶格畸 变;Ag 的 XPS 高分辨率谱图的拟合研究 Ag 在涂层的中存在形式,结果显示主要 以银离子的方式存在;Ag 掺杂 HA 涂层后,使得涂层形貌变得疏松多孔,涂层厚 度为 17.7±1.5μm,说明 Ag 的存在对 HA 成核生长起抑制作用;涂层与

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