半导体泵浦激光原理.docxVIP

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. .. 实验10 半导体泵浦激光原理 【实验目的】: 掌握LD泵浦Nd:YVO4 掌握连续激光器阈值概念及测量方法; 掌握连续激光器斜率效率及测量方法。 【实验原理】: 普通光源的发光——受激吸收和自发辐射 普通常见光源的发光是由于物质在受到外来能量作用时,原子中的电子就会吸收外来能量而从低能级跃迁到高能级,即原子被激发。激发过程是“受激吸收”过程。 自发辐射:在没有外界作用下,原子中的电子自发的由高能级向低能级跃迁,跃迁时将产生光辐射,此即为自发辐射。辐射光子能量为: hv= 原子的自发辐射过程完全是一个随机过程,所辐射的光之间完全没有联系。 波尔兹曼分布规律:在通常的热平衡条件下,处于高能级 E2 上的原子数密度 N2 ,远比处于低能级的原子数密度低。处于能级E的原子数密度N的大小随能级E的增加而指数减小,即 N ∝ e-EkT N2N1 ∝ 式中,k为波尔兹曼常量,T为绝对温度。因为E2 E1 ,所以 N2 《 普通广义的发光是包含了受激吸收和自发辐射两个过程。一般来说,这种光源所辐射光的能量是不强的,能量分散。 受激辐射和光的放大 亚稳态能级:在原子中可能存在这样一些能级,一旦电子从高能态向低能态跃迁时只能发生在l(角动量量子数)量子数相差 ±1 的两个状态之间,这就是一种选择规则,被激发到这种能级上时,由于不满足跃迁的选择规则,可使它在这种能级上的寿命很长,不易发生自发跃迁到低能级上。 受激辐射:处在亚稳态能级上电子,在外加光的诱发和刺激下可以使其迅速跃迁到低能级上,并放出光子。受激辐射理论是激光的基础。 受激辐射过程大致如下:原子开始处在高能级 E2 ,当一个外来光子所带的能量 hv 正好为某一对能级之差 E2-E1 ,则这原子可以在此外来光子的诱发下从高能级 E2 向低能级 粒子数反转 为使光源发射激光,关键是发光原子处在高能级的数目比低能级上的多,此即为粒子数反转。 【实验内容】: LD泵浦Nd:YVO4固体激光器的基本概念与主要参数测量 LD泵浦Nd:YVO4固体激光器具有以下特点: 、光谱匹配性好; ②、体积小,结构简单,装调方便,使用寿命长; 、具有倍频特性。 LD泵浦Nd:YVO4固体激光器的相关参数和曲线: ①、泵浦功率(Pin)-—输出功率(P 如下图: 随泵浦功率增加,激光器首先渐渐增加自发辐射,直至超过阈值,发生受激辐射。开始发生受激辐射时的泵浦功率值,为阈值功率,用 Pth ②、利用 Pin — Pout 曲线找到 双斜法:将 Pin — P b、常规法:输出光功率延长线与功率轴的交点作为激光器的阈值功率; c、导数法:在 Pin — Pout 曲线中,将输出功率对泵浦功率求二阶导数,求导数波峰所对应的功率值为 ③、Pin — Pout 该斜率为 Pth 以上的 Pin — Pout LD泵浦Nd:YVO4固体激光器光斑尺寸的测量 在各种不同光强分布形式中,基横模的光强分布不均匀性最小,因此需要激光器工作在基横模状态。激光基横模的光强分布是高斯分布,能够方便地测量光斑的大小。 取激光器的轴向为直角坐标系的z轴,以谐振腔的中心为原点,并在与主轴z垂直的平面上取x轴和y轴。 衡量光斑大小可以用光斑半径,它定义为光强衰减到中央最大光强的1/e2 的位置与z轴之间的距离,称为半宽度,记为W;也可用半极大全宽度,它定义为光强衰减到中央最大光强的一半的位置与z轴之间距离的2倍,称为半功率直径,记为 D1/2 。可得,D1/2 = 用刀口法可以测定光斑的大小和验证光斑的光强分布是高斯分布。实验中使刀口平行于y轴,沿垂直于x轴方向移动。当刀口缓慢推入光束时,设刀口挡住了 x ≤ a 的所有点。最后,归一化的高斯分布和相对功率与刀口位置关系曲线如下图所示: 相对功率为0.25和0.75的点分别位于高斯分布曲线极大值两侧,其距离为ep=0.6745σ。由实验得到的相对功率与刀口位置的关系曲线可确定ep的值。用ep的值可计算出光斑大小: W = 1.4826(2ep) D1/2=1.7456(2ep LD泵浦Nd:YVO4固体激光器远场发散角的测量 激光光能量在空间的分布高度集中在光的传播方向上,但它仍有一定的发散度。总的来说,光斑尺寸w(z)是随z的增加而增加的,成为两条对称曲线,在z=0处最细。 由上述可知,本实验用刀口法测量激光光斑尺寸。当利用一刀口垂直于光束传播方向,将遮盖部分光束,这将导致通过的激光功率下降。测出激光透过功率为94%和6%二值所对应的刀口相对位置,即可测得光束腰斑直径2ω值。 远场发散角:以光斑尺寸为轨迹的两条双曲线的渐近线间的夹角。如图所示: 测量远场发散角的方法有两种: 选取z zr 的两个不同值 z1 、z2 ,根据光斑尺寸定义,从I—ρ 曲线中分别求出

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