正畸头影测量分析.ppt

X线头影测量分析Cephalometrics Analysis  简介 1934年Hofrath and Broadbent 提出 我国于20世纪60年代初运用于临床 通过测量X 线头颅定位照相所得的影像,对牙颌、颅面各标志点描绘出一定的线角进行测量分析,从而了解牙颌、颅面软硬组织的结构,使对牙颌、颅面的检查诊断由表面形态深入到内部的骨骼结构中去,它是正畸临床诊断及治疗设计的一种重要手段. 简言之：通过对X片进行分析、测量，从而了解牙颌、颅面骨骼及软组织发育状况及相互关系 。 一、主要应用 研究颅面生长发育 牙颌、颅面畸形的诊断分析 确定错牙合畸形的矫治计划 研究矫治中，矫治后的变化 外科正畸的诊断和矫治设计 下颌功能分析 1.研究颅面生长发育 不同个体同一年龄段—横向研究颅面发育 同一个体各年龄段---纵向研究颅面发育 明确了颅面生长发育机制，快速生长期的年龄、及对颅面生长发育的预测。 2.牙颌、颅面畸形的诊断分析 3.确定错牙合畸形的矫治计划 5.外科正畸的诊断和矫治设计 通过X线对颅面畸形患者进行分析 得出畸形的机制 确定部位、方法及需要移动或切除的部位 头颅定位的关键在于：定位仪上左右耳塞与眶点指针，三者构成一与地面平行的恒定平面。 2.头影图的描绘 传统描图工具： 观片灯、硫酸纸、毫米尺、半圆仪及硬质尖锐的铅笔等 X线头影图