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从后续程序谈化学领域专利申请文件的撰写 作者姓名：韩玉顺 孙雅雯 李学毅 作者单位：国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心材料部 摘 要 化学领域专利申请文件在撰写过程中有着其特殊性，从原料、工艺到产品都 对申请文件提出了更高的要求。本文中，笔者结合几个复审和无效的案例中由于 专利申请文件的撰写缺陷而导致后续程序中出现的问题，分析了化学领域专利申 请文件的撰写应特别注意的事项，并对如何撰写出一份好的专利申请文件提出了 建议。 关键词 化学 后续程序 申请文件 撰写 一、引言 近年来，随着国家深入实施“知识产权战略”，将其作为创新驱动发展战略的 重要支撑部分，企事业单位和科研团队越来越重视知识产权的保护，中国的专利 申请也快速发展。但是，专利文件作为法律文书，对撰写有着较高的要求；权利 要求书更是专利文件的核心，社会公众通过权利要求书来确定专利保护的范围。 专利申请文件的撰写质量直接影响专利申请过程中专利权益的获得以及在后续 复审、无效和侵权诉讼中专利权的稳定性。整体说来，中国的专利申请文件的撰 写水平还有较大的提高空间。 《专利法》及《专利审查指南》中对于化学领域专利申请有着复杂而特殊的 规定，其所涉及的新化合物的公开和表征以及新制备方法的要求都较为严格，这 也就导致在专利申请文件的撰写过程中所要注意的问题更多。下面，笔者将从后 续程序的角度，通过三个具体案例来探讨对于化学领域专利申请文件撰写的重要 1 性以及在撰写中应该要注意的问题。 二、案例 【案例1】根据复审委2010 年第 1F26027 号审查决定案 案情介绍： 本复审请求案涉及申请号2 、发明名称为“碳刷” 的发明专利申 请。审查员于2009年3月13 日以本申请的权利要求1-4不符合原《专利法实施细则》 第20条第1款（现《专利法》第26条第4款）的规定为由做出驳回决定。 驳回所针对的权利要求1-4如下： 1.一种碳刷，其中，在利用激光衍射法测定作为填料的石墨粒子时的粒径分 布中，石墨粒子中粒径为5μm 以下的石墨粒子的累计值为10％以下。 2.如权利要求1所述的碳刷，其中，在所述利用激光衍射法测定作为填料的 石墨粒子时的粒径分布中，石墨粒子中粒径为100μm 以上的石墨粒子的累计值为 10％以下。 3.如权利要求2所述的碳刷，其中，在所述利用激光衍射法测定作为填料的 石墨粒子时的粒径分布中，石墨粒子中粒径为10-40μm 的石墨粒子的累计值为60 ％以上。 4.如权利要求3所述的碳刷，其中，在所述利用激光衍射法测定作为填料的 石墨粒子时的粒径分布中，石墨粒子中粒径为12-20μm 的石墨粒子的累计值为40 ％以上。 其主要驳回理由是：无法明确权利要求1-4中以百分比形式表示的“石墨粒子 的累计值”是体积百分比、重量百分比、粒子个数百分比还是以其他物理量为基 础的百分比；“累计”表明是一定范围的总和，没有明确以什么物理量为基础进行 累计。因此，权利要求1-4没有清楚地表述请求保护的范围，不符合原《专利法 实施细则》第20条第1款（现《专利法》第26条第4款）的规定。 后续审查过程： 申请人对驳回决定不服，向专利复审委员会提交了复审请求，未对申请文件 进行修改，同时提交了附件1-5作为证据， 附件1：《微粒子工学大系》，第1卷基本技术，2001年10月31 日出版发行、 2 封面页、目录页、第305-309页、版权页，共8页 附件2 ：声称由岛津制作所提供的《岛津粉体测定机器——制品要览》，共 32页； 附件3 ：日本专利申请JP特开2002-69122A专利公报，复印件共9页，公开日 期为2002年3月8 日； 附件4 ：日本专利申请JP特开2002-324915A专利公报，复印件共3页，公开日 期为2002年11月8 日； 附件5：《新陶瓷粉体手册》，1983年7月25 日出版发行，封面页、目录页第 12-13页、第374-379 页、版权页、共10页。 复审请求人陈