光催化沉积法制备Pd膜的改进及Pd膜性能表征pall棚岫lnembr卸es.PDF

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第29卷第5划 南京丁、p大学学报 V.)29No5 :竺!兰!! 塞!!竺! 光催化沉积法制备Pd膜的改进及Pd膜性能表征 黄丹,蒋久乐,范益群 (南京工业大学化学,匕工学院,江苏南京210009) 摘要:对光催化沉积法(PcD)制备Pd膜进行了改进,使含有¨0:与Pdn的悬浮液膜层在;孔陶瓷膜表面形成 液体薄膜,该薄膜在紫外光直接照射下发生光催化还原反应烧结后得到含T-0:厦Pd晶种的超薄膜层,用化学镀 uc和 005~0 07xL旷6瑚Ⅳ(m2…Pa),N。的渗透量 15Mh下进行气体渗遗实验,当温度为450℃时,II。渗连系数为4 检测不出.高温热榍环测试表明该Pd膜致密且具有起好的热稳性 关键词:Pd膜;光催化沉轵;.1102;H2分离 中图分类号:06148;TB383 文献标识码:A 文章编号:167I一7627(2()07)05一0005一03 characte—zation0f ImprovedpIlotocatalyticdeposition锄d HUANG Dan,JIANGJiu_1e,FANYi—qu” aⅡdch㈨d ch…s‘ry unl…i‘yofT“hnology,N3qi“g210009,chIIm) (coII。萨0f E“卦neeing,N8nJl“g Abst阳ct:h。rder and亩mp】母血。preparauonpn垃ess,蛐iIn- t。impmvelhi“palladiummembra∞pedb咖aⅡce was 0fthemethodwas int0 photocatalyticdepositiondevel叩ed.Tkk。y addi“gTi02powder pmved s01uliona11d Pd2+1nfoⅣjnthe 6lmonfhe a reactant reduci”g su8pensm inte池ci“g of aIldthen Pd2+on modmedE畦memb珀newit}lathickness TiO,merIlbraneinadvance reducing it,and 5~6¨m conductedat350一500℃and005一O15MPa1he wasrab打caIed weIe hvdr0. The朗spermeatiorlelpedmenls aI450 and of arc407×10 almos“rInnite mo

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