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晶体完美性de鉴定 报告人:叶佳 测定晶体缺陷结构的重要 晶体中缺陷的种类、数量是鉴别晶体质量优劣的重要标志。 晶体的缺陷通常能够吸收、反射或散射晶体内部产生的或是由外部输入的磁、光、声和电能量，从而影响晶体的性能。 晶体中的缺陷按几何线度分类 体缺陷 面缺陷 线缺陷 点缺陷 测量结构欠完美性的方法 光学法 最早最有用的鉴定方法之一 透射电子显微术 昂贵分辨率高 X射线形貌术 包括最广泛使用的近代技术 扫描电子显微术 提供了一整套技术，对于半导体材料的研究有特殊意义 X射线形貌术分类 根据试样厚度t的多少来分类 当ut=1时，一般选择兰氏法 当ut1时，一般选择反常投射形貌术 u是所选用的单色X射线的先行吸收系数 兰氏法——最广泛使用的形貌术 完美晶体中的缺陷引起反射轻度的局部增加。在消光衬比条件下，当衍射光束来记录形貌图时，缺陷表现为一些强度比完美晶体背景更强的区域。 X射线形貌术适用于生长态的整体晶体，而起飞破坏性及其分辨率和可详细解释性已达可接受的水平，因此这种技术是一种最有价值的鉴定技术。 参考书 《晶体生长》 ——中国建筑工业出版社 《晶体生长》