硅元素在TiAl合金熔模铸造界面反应中的扩散行为-中国有色金属学报.PDF

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第 23 卷专辑 1  中国有色金属学报  2013 年 12 月  Vol.23 Special 1  The Chinese Journal of Nonferrous Metals  Dec. 2013  文章编号:1004­0609(2013)S1­s0742­04  硅元素在 TiAl 合金熔模铸造界面反应中的扩散行为 1,2  1,2  2  2  1,2  贾 燚  ,肖树龙  ,徐丽娟  ,田 竞  ,陈玉勇  (1.  哈尔滨工业大学 金属精密热加工国家级重点实验室,哈尔滨  150001;  2.  哈尔滨工业大学 材料科学与工程学院,哈尔滨  150001)  摘 要:通过在 TiAl 合金熔模铸造用陶瓷型壳 ZrO 面层中添加纯 Si 元素粉末,研究 Ti­46Al 和 Ti­46Al­7Nb 两 2  种合金与纯 ZrO 面层与含有 Si面层的反应界面。结果表明:4 种界面的界面反应扩散层的厚度都约为 200 μm, 2  但是 Si元素的扩散能力远大于 Zr 的,并与 Ti发生反应,可见最深处的反应物离界面约为 50μm。 关键词:TiAl 合金;熔模铸造;界面反应;Si;元素扩散 中图分类号:TG249.5  文献标志码:A  Diffusion of Si in interfacial reactions between  TiAl castings and ceramic moulds  1,2  1,2  2  2  1,2  JIAYi  , XIAO Shu­long  , XU Li­juan , TIAN Jing , CHENYu­yong  (1.National Key Laboratory of Science and Technology on Precision Heat Processing of Metals,  Harbin Institute of Technology, Harbin 150001,China;  2. School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China)  Abstract: The interfacial reactions between TiAl castings and ceramic moulds were investigated. The reaction interface  between two kinds of alloys asTi­46Al and Ti­46Al­7Nb and two kinds of ceramic moulds as pure ZrO and ZrO andSi 

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