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2008 讀書會 會議記錄
主持
王泓翔
記錄
李世欽
地點
東4055B
日期
97/
討論主題
奈米材料的製備
成員: 張鈞奕、翁盟雄、王耀群、江幸蓉、林根凰、李家紘、連鼎威、李玟頡
奈米材料包括奈米粉末和奈米固體兩個層次。奈米固體是用粉末冶金工業技術以奈米粉末為原料,經過成形和燒結製成的。奈米粉末的製備一般可分為物理方法(蒸發:冷凝法、機械含重化)和化學方法(化學氣相法、化學沉積法、水熱法、溶膠-凝膠法、溶劑蒸發法、電解法、高溫蔓延合成法等)。製備的關鍵是如何控制顆粒的大小和獲得較窄且均勻的粒度分佈以及如何保證粉末的化學純度。至於在實際生產中選擇那一種製備方法,就要綜合考慮生產條件、對粉末質量的要求、產量及成本等因素
1.蒸發-冷凝法
又稱為物理氣相沉積法(PVD),是用真空蒸發、激光、電弧高頻感應、電子束照射等發法使原料氣化或形成電漿,然後在介質中驟冷使之凝結。該方法的特點:純度高、結晶組織好、粒度可控制,但是技術設備要求很高。根據加熱源的不同,該方法又分為六種:
真空蒸發-冷凝法: 原理是對蒸發物質進行真空加熱蒸發,然後在高純度惰性氣體中冷凝 形成超細微粒。該方法僅適用於製備低熔點、成分單一的物質,是目前製備奈米金屬粉末的主要方法。如1984年蓋萊特首次用惰性氣體冷凝和原位加壓成形,研製成功了Fe、Pd、Cu等奈米金屬材料。但該方法在合成金屬氧化物、氮化物等高熔點物質的奈米粉末時還存在侷限性。
高壓氣體霧化法:
利用高壓氣體霧化器將-20~40度C的氦氣和氬氣以高音速射入熔融材料的液流內,熔體被破碎成極細顆粒的射流,然後急速冷卻而得到超微粒。
激光加熱蒸發法:
以激光為快速加熱源,使氣相反應物分子內部很快低吸收和傳遞能量,在瞬間完成氣相反應的成核、長大和終止。但由於激光器的出粉效率低,電能消耗較大,投資大,故該方法較難量產
高頻感應加熱法:
以高頻線圈為熱源,使坩堝內物質在低壓的He、N2等惰性氣體中蒸發,蒸發後的金屬原子與惰性氣體分子相碰撞冷卻凝聚成微粒。但該方法不適用於高沸點的金屬和難熔化合物,且成本高。
電漿法:
用電漿將金屬、化合物原料熔融、蒸發和冷凝,從而獲得奈米微粒。該方法製得的奈米粉末純度高、粒度均勻,且適用於高熔點金屬、金屬氧化物、碳化物、氮化物等。但離子鎗壽命短、功率低、熱效率低。
電子束照射法:
利用高能電子束照射母材(一般為金屬氧化物),表層的金屬-氧(如Al-O鍵)被高能電子切斷,蒸發的金屬原子透過瞬間冷凝、成核、長大,最後形成奈米金屬粉末,但目前該方法僅限於獲得奈米金屬粉末。
2.機械合金法
該法利用高能球磨方法控制適當的球磨條件以獲得奈米級粉末是典型的固相法。該方法工業技術簡單、製備效率高,能製備出用常規方法難以獲得的高熔點金屬和合金、金屬間化合物、金屬陶瓷等奈米粉末。如1988年日本Shing等人首次利用機械與金屬製備10nm的AlFe合金粉末。但是,該方法再製備過程中易引入雜質,粉末純度不高、顆粒分佈也不均勻。
3.化學氣相法
利用揮發性金屬化合物蒸氣的化學反應來合成所需粉末,是典型的氣相法。適用氧化物和非氧化物粉末的製備。特點:產物純度高,粒度可控制,粒度分佈均勻且窄,無團聚。但設備投資大、耗能高、製粉末成本高。
化學氣相沉積法(CVD):
原料以氣體方式在氣相中發生化學反應行成化學微粒。普通CVD法獲得的粉末一般較粗,顆粒存在再團聚和燒結現象。而電漿增強的化學氣相沉積法(PECVD)是利用電漿產生的超高溫激發氣體發生反應,同時利用電漿高溫區與其周圍環境形成的巨大溫度梯度,通過急冷獲得奈米微粒。如日本的新原浩一應用此法製備了Si3N4/SiC奈米複合粉末。利用該方法製得的粉末粒度可控,粒度分佈均勻,無團聚,但成本較高,不適用於工業化的大規模生產。
氣相分解法:
一般是以金屬有機物為原料,通過氣相狀態下的熱分解而製得奈米粉末。例如以Zr(OC4H9)4為原料,經過氣相分解合成ZrO2奈米粉末。但是,金屬有機物原料成本較高。
4.化學沉澱法
這是液相化學合成高純奈米粉末應用最廣的方法之一。它是將沉澱劑加入到金屬鹽溶液中進行沉澱處理,再將沉澱物過濾、乾燥、鍛燒,就製得奈米級化合粉末,是典型的液相法。主要用於製備奈米級金屬氧化物粉末。它又包括共沉澱和均相沉澱法。如何控制粉末的成分均勻性及防止形成硬團聚是該方法的關鍵問題。
共沉澱法:
將沉澱劑加入混合金屬鹽溶液中,使各組分混合均勻得沉澱,再將沉澱物過濾、乾燥、鍛燒,即得奈米粉末。為了防止形成硬團聚,一般還採用冷凍乾襙或共沸蒸餾對前驅物進
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