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材料表面与界面 第一章 绪论 固体材料 固体材料 表面层结构 表面组成 表面吸附、脱附 表面的电子态、声子态等 1-1表面与界面的概念 表面：通常把一个相和它本身的蒸汽（或在真空中)相接触为界面。 界面：两个不同的相或取向不同的材料相接触的分界面。 固 固-固界面 晶界：多晶材料，晶相相同，取向不同 相界面：不同材料组成的面（不常见） 1-2表面科学及其应用 理想晶体（无限连续体）：晶胞（能反映晶体特征的最小单元）在三维空间 上的周期性重复。 实际晶体：有边界 一、表面与体内的差别 1、组成上的差别―表面偏析 (表面富集、表面偏析、晶界偏析） 表面分析 表面分析 表面的元素组成？ 表面元素的量？ 表面元素在表面的分布？ 2、表面质点排列与体内的差别（表面结构分析） 二维结晶学表面结构分析表面质点的周期性排列方式 二维结晶学 表面结构分析 表面质点的周期性排列方式 二维原胞（晶胞）大小、对称性 质点在原胞中的位置 3、表面原子的电子结构与体内的不同 表面上的原子的电子云空间分布变化?表面物理化学性质变化 表面原子的电子结构与能级变化 能量和空间分布状态 XPS测内层电子 UPS测价电子 二、表面科学的实际应用 光学性质：增透膜、减反膜 催化作用： 1、改善材料的机械性能、腐蚀性能 SiN4-SiN2O预氧化 2、催化问题 3、界面的研究 固-固界面、固-液界面（润湿） 4、能源的利用 1-3表面研究方法 一、常用表面分析技术 AES 俄歇电子谱 AEAPS 俄歇电子出现电势谱 SEM 扫描电子显微镜 EPMA 电子探针微区分析（微探针） EELS 电子能量损失谱 ESCA 化学分析电子谱（XPS） EXAFS 扩展X射线吸收精细结构 HREELS 高分辨电子能量损失谱 IMMA 离子微探针质量分析器 IRRAS 红外反射吸收谱 LEED 低能电子衍射 MEED 中能电子衍射 RHEED 反射高能电子衍射 SIMS 二次离子质谱 STM 扫描隧道显微镜 UPS 紫外光电子谱 XPS X射线光电子谱 二、表面分析分类 1、根据测量物理基础分类 a、以电学、光学技术为基础 b、表面电子谱方法 c、化学的方法 2、表面电子谱 优点： 电子容易产生而且价廉 电子的荷质比很大，很容易被聚束或偏转 电子有合适的非弹性散射平均自由程（能够带回来非常丰富的近表面层的信息） 电子和原子、分子、离子不同，它在使用过程中不会影响系统的真空度，不会存在“记忆”效应 电子能有效地加以检测 缺点： 电子对样品不是完全无损的 电子谱探测的深度依赖于电子的能量和材料的特性 电子携带的信息一般来自近表面约1nm的深度，所以电子谱包含有某些体内的性质 电子不像光束那么容易做到“偏振化”和单色化，并且容易受外界磁场的影响。 Io(离子)二次离子 Io(离子) 二次离子 光子 反射等离子 俄歇电子 IP(电子) 俄歇电子 电子 XPS UPS 反射电子（LEED） 俄歇电子（AES） 二次电子 IP(电子) 光子 分析深度 LEED EELS ISS 1nm UPS XPS AES SIMS 1nm深度10nm SEM EPMA 1μm 分析元素范围 SIMS IMMA 包括全部元素 AES ISS 分析Li以下的元素 XPS 对轻元素灵敏度差 定量分析 EPMA SEM 具有较好的定量结果 XPS AES 一般为半定量 对表面的损伤程度 UPS LEED 对表面损伤小 中能离子（数KeV~10KeV） 损伤最大 第二章 表面研究的实验方法 2-1表面谱仪的概述 显微镜 显微镜 光学 电子 XRD、化学分析、仪器分析、X荧光光谱（不合适，得不到表面信息） 表面分析仪器 表面分析仪器 入射粒子（探针）[电子、离子、原子……] 从表面出射粒子 主要的表面谱仪： 研究对象 表面分析仪器 表面形貌 光学显微镜、SEM、STM、AFM 表面结构 LEED、RHEED、EXAFS 表面组成和表面原子电子态 AES、XPS、UPS、EELS、 SIMS、IMMA、EPMA 对表面分析仪器的要求： = 1 \* GB3 ①灵敏度高、分辨能力高 = 2 \* GB3 ②分析是非破坏性的，操作时不影响表面的组成和结构 = 3 \* GB3 ③能分析清洁表面和吸附表面 = 4 \* GB3 ④有时还要求能同时进行深度分析 表面谱仪必须具备的条件： = 1 \* GB3 ①能够有效地制备清洁表面 = 2 \* GB3 ②超高真空的环境（一般要达