电工钢第八九章.doc

第8章特殊用途的电工钢 8.1冷轧取向硅钢薄带 8.1.1概述 冷轧取向硅钢薄带是指厚度≤0.1mm含3%Si的（110）[001]的取向硅钢而言。它是军工和电子工业中的－种重要材料，要用于工作频率≥400Hz下的高频变压器，脉冲变压器，脉冲发动机，大功率磁放大器，通讯用的扼流线圈，电感线圈，储存和记忆元件、开关和控制儿件、磁屏蔽以及在振动和辐射条件下工作的变压器，工作频率愈高，涡流损耗明显增高，所选用的钢带也应当愈薄（见表1－1）。 1949年利特曼(M.FLittmann)根据邓恩〔C.G.Dunn〕等提出的3%Si的(110)[001]单晶体经50%~70%冷轧转变为{111}112冷轧织构，经初次再结晶退火转变为(110)[001]再结晶织构的规律（即这两种位向的关系是晶体绕001轴转动约35°的规律 [1]用异体取向硅钢产品再经冷轧和退火制成了取向硅钢薄带，满足了当时雷达中脉冲变压器所需要的材料。因为那时作为原始材科的GO钢产品B8值较低（1.74T）所以厚度0.1mm薄带的位向为{210}001~{310}001，B8值为1.6~1.7T，P10=0.35~0.70W/kg[2]，随后美国Armco公司、英国BSC公司和日本新日铁公司等陆续生产了厚度0.025，0.05和0.1mm薄带产品，70年代又陆续停止生产，专门生产铁芯的工厂购买厚度0.23~0.35mm取向硅钢产品作为原料按此法生产。 1959年钢铁研究总院制成厚度0.05和0.08mm的取向硅钢薄带。证明3%Si钢按二次冷轧法制成0.35mm薄板，经高温退火形成（l10)[001]位向后再经－次冷轧和退火，（l10)[001]位向后，再经一次冷轧和退火，（110）[001]取向度磁性高。0.08mm薄带经磁场退火后矩形Br/Bs≥0.90，μm=50000，Hc=16~20A/m，B8=1.90T，磁性达到取向50%Ni－Fe水平[3]。随后将此技术推广到上海钢铁研究所和大连钢厂进行生产。每年生产5－10t，满足了国内需要。1983年以前是从炼钢开始制造，生产工艺流程长成材率只有30%～40％，磁性达到苏联产品水平，其中30％达到美、日同类产品水平，性能不稳定。1983年钢铁研究总院用武汉钢铁公司生产的0.20~0.35mm厚的取向硅钢产品作为原材料，生产0.025~0.1mm厚的取向硅钢薄带和各种尺寸的铁芯，成材率提高到85%~90％磁性达到国际水平并且稳定，成本明显降低[4]. 8. 制造工艺流程如图8－1所示。 取向硅锅薄带的磁性与原始材料的取向度和磁性、冷轧压下率以及退火工艺密切相关。原始材料GO钢和Hi－B钢的取向度和磁性高，制成的薄带产品磁性也高（见图8－3）。作为原始材料的GO钢和Hi-B钢最好不涂绝缘涂层，这可降低原始材料成本。 GO钢带或Hi-B钢带首先在含少量HF或氟酸盐的盐酸或硫酸水溶液中酸洗去除表面玻璃膜和绝缘膜。然后在多辊轧机上冷轧到规定厚度。如果冷轧时易断裂，可经低温加热脱氢处理。由图8－2看出，冷轧压下率应控制在60%~70%，此时冷轧织构中{111}112组分最强，初次再结晶退火后（110）[001]取向度和B值最高，Hc最低。产品愈薄，合适压下率有往更大压下率方向移动的趋势，而且压下率对磁性的影响逐渐减小。 冷轧后在连续炉中干H2十N2或真空下经750~1000℃退火。退火温度高，保温时间短。为获得高取向度和B8值，应当进行初次再结晶退火，保温时间小于二次再结晶孕育期，如750℃×3~5min或＞900℃×20~30s。在原来粗大伸长二次晶粒的晶界中形成均匀细小初次晶粒群。由于晶粒小，Hc和PT也较高。温度高或保温时间长发生二次再结晶，(110)[001]强度减弱，位向更漫散，偏离角为10°~30°，存在有（l20）~（130）[001]组分，B8降低。但由于晶粒粗化，Hc和PT也明显降低。因此要按照磁性的要求，控制好退火温度和时间。图8－3为0.05mm薄带退火温度（时间为3min)对B8、Hc和高频PT的影响。厚0.35mmQ9G（Hi-B钢）制的试样在700℃×3min退火后初次再结晶已完全，B8最高（1.88T）。随温度升高，B8降低。厚0.3mmQ8G和0.35mm Q10制的试样经700℃退火3min后仍残存有形变晶粒〔见图8－4(a）〕B8低。750℃×3min退火后再结晶完全（见图8－4(b）〕，750℃和850℃时B8最高（1.85~188T)。而Q9G制的试样在850℃时已开始二次再结晶，900℃×10min已基本完全，并常出现魏氏组织〔见图8－4（c）〕。Q 对＜0.05mm薄带来说，合适的退火温度范围变宽，而且退火后基本为大小混合晶粒，更难发展为完善