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激光直写系统的软硬件设计 第一章引言 一引言 激光直写技术是随着大规模集成电路的发展而于20世纪80年代中期提出的。激 光直写是一种制作光刻掩模、衍射元件等的新技术。激光直写技术是将激光刻蚀、声 光调制、光束准直以及计算机控制和数据处理等高新技术融为一体的技术。 所谓激光直写，就是利用聚焦的激光光束，由计算机控制声光调制器以及平台的 移动，在光刻胶上进行曝光，经过显影后得到所需要的图形。到目前为止，针对不同 用途，己出现多种控制形式的激光直写系统，大概有以下几种模式：第一种是直角坐 标方式；第二种是极坐标方式的；第三种是直角坐标和极坐标混合的方式；最后一种 是基于空间光调制器的方式。前三种是采用连续曝光或逐点曝光的方式，最后一种是 采用逐个图形曝光的方式。 1．1发展现状 1．1．1国外发展现状 迄今为止，美国、德国、瑞士、加拿大等国家已研制了各种激光直写设备，针对 不同的用途，激光直写设备具有不同的结构。 ScherreInstitute 瑞士Paul 系统用于二元光学器件以及光计算器件的制作…，更多的研究者用激光直写系