模拟电子技术基础_杨拴科_第3章.pptVIP

  1. 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
  2. 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  3. 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  4. 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  5. 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  6. 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  7. 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
JFET符号 N沟道 P沟道 场效应管的特点(与双极型晶体管比较) (1) 场效应管是一种电压控制器件,即通过uGS来控 制iD; 双极型晶体管是一种电流控制器件,即通过iB来控制iC。 (2) 场效应管的输入端电流几乎为零,输入电阻非常 高; 双极型晶体管的发射结始终处于正向偏置,有一定 的输入电流,基极与发射极间的输入电阻较小。 (3) 场效应管是利用多数(一种极性)载流子导电的; 在双极型晶体管中二种极性的载流子(电子和空穴)同时参与了导电。 (4) 场效应管具有噪声小、受辐射的影响小、热稳定 性较好,且存在零温度系数工作点。 (5) 场效应管的结构对称,有时(除了源极和衬底在 制造时已连在一起的MOS管)漏极和源极可以 互换使用,且各项指标基本不受影响,使用方便、 灵活。 (6) 场效应管制造工艺简单,有利于大规模集成。 每个MOS场效应管在硅片上所占的面积只有双极 性晶体管5%。 场效应管的跨导小,当组成放大电路时,在相 同的负载电阻下,电压放大倍数比双极性晶体管 低。 (8) 由于MOS管的输入电阻高,由外界感应产生的电 荷不易泄露,而栅极上的绝缘层又很薄,这将在 栅极上产生很高的电场强度,以致引起绝缘层的 击穿而损坏管子。 2. 绝缘栅场效应管的栅极为什么不能开路? 思 考 题 1.与双极型晶体管相比,场效应管主要有哪些特点? 3.3 场效应管放大电路 3.3.1 场效应管的偏置及其电路的静态分析 1.自给偏压 场效应管常用的偏置方式 自给偏压 分压式偏置 IDQ USQ= IDQ RS UGSQ= –IDQ RS (1) 电路 (2)自给偏压原理 + _ + _ 可见,gm与IDQ有关。IDQ越大,gm也就越大。 3. 极限参数 (1) 漏极最大允许耗散功率 PDSM (2) 最大漏极电流IDSM (2) 极间电容 栅源电容Cgs 栅漏电容Cgd 漏源电容Cds (3) 栅源击穿电压U(BR)GS (4) 漏源击穿电压U(BR)DS [例] 在图示电路中,已知场效应管的 ;问在下列三种情况下,管子分别工作在那个区? (b) (c) (a) [解] (a) 因为uGSUGS(off) , 管子工作在截止区。 G D S (b) 因 管子工作在放大区 (c) 因 管子工作在可变电阻区 G D S 3.2 绝缘栅型场效应管 N沟道 IGFET 耗尽型 增强型 P沟道 N沟道 P沟道 绝缘栅型场效应管的类别 3.2.1 增强型MOS管 g s d N+ N+ SiO2保护层 Al b P 结构示意图 P N+ s g d N+ 以P型半导体作衬底 形成两个PN结 SiO2保护层 引出两个电极 引出两个电极 引出栅极 Al 从衬底引出电极 两边扩散两个高浓度的N区 SiO2保护层 P N+ s g d N+ Al 故又称为MOS管 管子组成 a. 金属 (Metal) b. 氧化物 (Oxide) c.半导体(Semiconductor) 1. 工作原理 电路连接图 P N+ s g d N+ – + + – (1) uGS =0 , uDS≠0 源极和漏极之间始终有一个PN结反偏,iD=0 P N+ s g N+ iD=0 d – + + – P N+ s g N+ iD=0 d – + + – (2) uGS 0 ,uDS =0 产生垂直向下的电场 P N+ s g N+ iD=0 g – + + – 电场排斥空穴 吸引电子 形成耗尽层 P N+ s g N+ iD=0 d – + + – 形成导电沟道 当uGS =UGS(th)时 出现反型层 P N+ s g N+ iD=0 d – + + – UGS(th)——开启电压 N沟道增强型MOS管,简称NMOS N沟道 P N+ S G N+ iD0 D – + + – uDS (d)沟道反型层呈楔形 (b) 沿沟道有电位梯度 (3) 当uGS UGS(th) ,uDS0时 (c) 绝缘层内不同点的电场强度不同,左高右低 (a) 漏极电流iD0 uDS增大,iD增大 a. uDS升高 沟道变窄 P N+ S G N+ iD0 D – + + – uDS 反型层变窄 b. 当uGD =uGS–uDS=UGS(th)时 P N+ S G N+ iD0 D – + + – uDS 沟道在漏极端夹断 (b) 管子预夹断 (a) iD达到最大值 c. 当uDS进一步增大 (a) iD达到最大值且恒定 P N+ S G N+ iD0 D – + + – uDS P

文档评论(0)

小教资源库 + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档