光刻机精细对准方法研究-光学专业论文.docxVIP

光刻机精细对准方法研究光学专业 光刻机精细对准方法研究 光学专业 研究生梁友生 指导教师曹益平邢廷丈 摘 要 集成电路的密集程度和性能指标按摩尔定律(Moor’S Law)成几何级数快 速增长，它强力推动着整个IT行业的高速发展。光刻技术在集成电路中有着举 足轻重的作用，是集成电路工业的“顶梁柱”，是近代信息技术中的一项关键技 术。光刻技术中有三大核一tb技术，其中掩模一硅片对准是光刻机的三大核心技 术(物镜、对准、工件台)之一，随着光刻机技术水平的提高．特征线宽的尺 寸减小到纳米级时，对光刻机对准系统提出了更高对准精度的性能指标。 本论文就目前光刻机需要高精度的对准系统进行了方案的分析和设计，提 出了一些可实用性的提高对准精度的方法，满足了需要高精度投影光刻机的需 求，得出了一些结论具有一定的实用价值。本文研究的主要内容和结果如下： 1．阐述了投影光刻机高精度对准系统设计的技术方案和原理。分析了系统 中采用的一些对准方法，标记设计问题等，提出了高精度掩模一硅片对准的方 案设计流程图。实现高精细对准精度需要提高光、机、电的综合性能指标，指 出了对准系统中必须处理好每一个环节的技术指标才能实现高精度对准。 2．硅片处理过程中化学机械抛光和旋转涂模技术导致的非对称标记的变 形，影响了对准精度，建立了一套校正掩模硅片变形的自动对准数学模型，并 应用于同轴、离轴混合对准系统的硅片模型，掩模模型以及工件台模型中。通 过算法计算出机器坐标系(MCS)、掩模坐标系(RCS)、硅片坐标系(WCS)相 互的位置关系，很好的校正由掩模硅片引起的平移、线变、旋转、正交性的偏 差： 3对对准系统中离轴对准光源信号调制原理和位相光栅标记光电探测方案 3对对准系统中离轴对准光源信号调制原理和位相光栅标记光电探测方案 进行了分析，并对照明光源影响对准精度提出了采用电光相位调制技术抑制杂 散光的机理，并对有无杂散光对光刻对准精度进行了分析比较，结果表明，使 用电光调制技术对对准精度有明显的改善，是一神比较有效地提高投影光刻对 准精度的方法。 4．离轴对准系统中根据光的标量衍射理论和相干原理对位相光栅标记产生 的高阶衍射对准信号强度进行了模拟和分析，得出增强型细分位相光栅标记产 生的高阶衍射级更能精确地决定对准标记位置，对准精度可达lOmn，大大的提 高了对准精度，同时可以根据不同分辨率的对准精度需求，选取特定的衍射缴 阶数进行测量，具有很大的工艺处理灵活性和很强的工艺适应能力，该方法对 标记信号的捕获具有可信度高，稳定性好的特点。 本课题的研究意义重大，着重结合我国100纳米光刻机的对准单元技术， 从提高光刻套刻精度的角度出发，在对标记设计、对准方案的选择、光源方面 以及对准信号提取做了对改善对准精度方法的研究，并提出了一些改善对准精 度的方法，具有一定实际意义。 关键词：光刻技术，掩模一硅片，光刻精细对准，对准精度，坐标校『F算法 电光调制，先进高阶增强型对准技术；对准信号强度 士本文的工作得到中国科学院光电技术研究所微细加工光学技 术国家重点实验室基金的资助 Study Study on Fine Alignment in Lithography Major Optics Graduate Yousheng Liang Advisor Yiping Cao Tingwen Xing ABSTRACT The denseness and performance index of Integrate Circuit(IC)have been enhanced rapidly in geometric series according to Moor’S Law．Such extraordinary growth has made enormous conuibutions to the development of whole IT indus仃y Lithography is indispensable technology to manufacture IC and is the key of modem informmion technology．Mask—Wafer Alignment is one of the three key technologies(projection lens，aligneg wafer stage)in lithography．With the development of lithography technology，alignment lithography systems with nanometer critical line—width dimension require higher al