激光干涉光刻技术-微电子学与固体电子学专业论文.docx

茎耋量鲨墨!!鍪杰翌茎—』堕坠壅堂堡圭篓簦整i!一激光干涉光刻技术研究 茎耋量鲨墨!!鍪杰翌茎—』堕坠壅堂堡圭篓簦整i!一 激光干涉光刻技术研究 光学专业 研究生张锦 指导教师郭永康 捅 要 予涉宠裁按零集激惫、于涉移辩嚣光学爱毙学竞粼予一舔，是莺豢鑫爨科 学基金资助的微细加工技术和微电子领域的前沿研究课题，对其进行趟论、模 毅耪实验研究，对控逶巍学光刻缀羧，获震我霜缠来撤瞧予帮光电子器彳譬、薪 型大屏幕平板擞示器和新型光刻机具有激要的科学意义和广阔的应用前景。 本谂文基予壳懿予涉帮衔瓣及光学金惑照辎邂论，练台评述了竞擎嵬蓊夔 蒸本原瑕、主要类型、发展趋势及开展激光无掩模干涉光刻和念息光刻研究的 溪静帮意义。 深入研究了无掩模激光干涉光刻技术用于商分辨、大视场、深亚微米和纳 水萋髟垒袋涎基本器理、理论、主要类囊藕实瑗方法。建立了多光豪、多曝光 掖术，包括双光束单曝光、双光束双曝光、三光束单曝光、三光束双曝光、四 光素帮五光寒于涉懿数学鐾理模型，编镰4了模数较臀著避孬了大量瓣谤冀模攒 研究，得到很多有用韵结果。建立了无掩模多光束多曝光干涉光刻实验系统， 提出了一耱采用梯形棱镜进每波薷分害礤秘利是露选择光瓣进行多耱多巍来多臻 光干涉光刻研究的实验系统，避行了干涉光刻实验研究，对模拟和实验结果进 霉亍了分掇。对影嫡予涉光刻结鬃躲主要鼹素作了深入菸分摄，磷究了提藤干涉 闼形对比度和周期稳定