弧光放电氩离子清洗源-真空.PDF

第56 卷第1 期 真 空 VACUUM Vol. 56 ，No. 1 第1 期 福贞，等：弧光放电氩离子清洗源 2019 年1 月 Jan. 2019 光放电氩离子清洗源 1 2 3 王福贞 ，陈大民 ，颜远全 1.北京联合大学，北京 100 102；2.大连纳晶科技公司，辽宁 大连 116600 ；3.深圳嘉德真空光电有限公司，深圳 5 18110） 要：弧光放电氩离子清洗源是提高膜基结合力的新技术。由空心阴极枪、热丝弧枪、阴极电弧源发 射的高密度弧光电子流把氩气电离，用得到的高密度的氩离子流清洗工件。工件偏压 200V 以下，工件偏 流可以达到 10A-30A ，弧光放电氩离子流密度大，对工件的清洗效果好。本文介绍了几种配置弧光放电 氩离子清洗源的电弧离子镀膜机和磁控溅射镀膜机。 关 键 词：固体弧光放电氩离子清洗源；气体弧光放电氩离子清洗源；结合力；旋靶管型柱状非平衡闭合 磁场的磁控溅射镀膜机 ： 中图分类号 TB43 文献标识码：A 文章编号：1002 -0322 2019 ）0 1-0027 -07 doi ：10 . 13385/j .cnki .vacuum. 2019 .0 1.06 The cleaning sources with argon ions using vacuum arc discharge technology 1 2 3 WANG Fu-zhen , CHEN Da-min , YAN Yuan-quan 1.Beij ing Union Univers ity , Beij ing 100102, China; 2.Dalian Nano -crystal Tech. Co. ，Ltd. Dalian 116600, China; 3.Shenz hen Golden Vac uum Photoelectrics Co. ，Ltd. Shenz hen 518110, China ） The cleaning sources with argon ions using vacuum arc discharge technology are new methods to improve the adhesive Abstract ： strength between top layer and substrate , where electrons coming from arc discharge plasma by hollow cathode gun, heater filament gun and vacuum cathode arc sources produce argon ions and then the argon ions were used to clean the samples before coating process. With the help of this technology , bias currents on substrate holder can reach between 10A and 30A under the condition of bias volta