激光直写系统的软硬件设计-光学工程专业论文.docxVIP

激光直写系统的软硬件设计 激光直写系统的软硬件设计 中文提要 提 要 激光直写技术是随着大规模集成电路的发展而于20世纪80年代中期提出的。激 光直写是一种制作光刻掩模、衍射元件等的新技术。激光直写技术是将激光刻蚀、声 光调制、光束准直以及计算机控制和数据处理等高新技术融为一体的技术。 所谓激光直写，就是利用聚焦的激光光束，由计算机控制声光调制器的通断以及 平台的移动，在光刻胶上进行曝光，经过显影后得到所需要的图形。激光直写系统要 求的器件的精度非常高，我们目前的工作目标是首先实现激光直写系统的基本功能， 在此基础上，再进行高性能系统的研制。本文的主要目的是建立了一种极坐标和直角 坐标相结合的激光直写系统的原理样机，探讨系统的各部分器件的基本性能要求，为 今后研制高精度激光直写系统做好工作基础，分析了激光直写系统中关键器件的性能 要求，基本控制方式，实现了极坐标方式下，任意旋转角度直线图形与共心圆环的光 刻。在文中探讨了在曲面条件下的激光直写焦深改进的措施。 自定义了一种支持丰．DXF文件的矢量文件({．LDW)，从而实现