第6章+薄膜材的表征方法.pptVIP

第六章 薄膜材料的 表征方法 第一节 薄膜厚度测量技术 1、薄膜厚度的光学测量方法 2、薄膜厚度的机械测量方法 1、薄膜厚度的光学测量方法 1）光的干涉条件 2）不透明薄膜厚度测量的等厚干涉条纹（FET）和等色干涉条纹（FECO）法 4）薄膜测量的椭偏仪（Ellipsometer）法 椭圆偏振测量（椭偏术）是研究两媒质界面或薄膜中发生的现象及其特性的一种光学方法，其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换。 椭圆偏振测量的应用范围很广，如半导体、光学掩膜、圆晶、金属、介电薄膜、玻璃(或镀膜)、激光反射镜、大面积光学膜、有机薄膜等，也可用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程的实时监测等测量。结合计算机后，具有可手动改变入射角度、实时测量、快速数据获取等优点。 实验原理： 在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后，光线的反射和折射在一般情况下会同时存在的。通常，设介质层为n1、n2、n3，φ1为入射角，那么在1、2介质交界面和2、3介质交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉。 椭偏仪测量薄膜厚度和折射率 椭偏仪方法又称为偏光解析法。其特点是可以同时对透明薄膜的光学常数和厚度进行精确的测量，缺点是原理和计算比较麻烦。 椭偏仪不仅可以用于薄膜的光学测量，而且可以被用于复杂环境下的薄膜生长的实时监测，从而及时获得薄膜生长