脉冲磁控溅射电源控制策略的分析-电力电子与电力传动专业毕业论文.docxVIP

摘要 摘要 论文题目：脉冲磁控溅射电源控制策略的研究 学科名称：检测技术与自动化装置 研 究 生：刘 洋 签 名： 指导教师：黄西平 副教授 签 名： 摘 要 磁控溅射技术作为一种有效的镀膜沉积技术，因其可以低成本制备出均匀、附着力好、 致密度高、内应力小的优质薄膜，而广泛应用于能源、环境、物质、材料等诸多专业领域。 磁控溅射电源作为磁控溅射装备的关键设备，它的性能好坏直接决定了镀膜沉积的质量和 效率，因此设计出稳定性好与可靠性高的磁控溅射电源是很有必要的。 本文主要对磁控溅射电源的恒流特性和抑弧进行了分析与研究。首先分析了等离子体 负载的特性，得到了磁控溅射镀膜工艺对电源的特殊需求；其次针对等离子体负载非线性 特性造成电源的恒流特性差、起辉成功率低、易出现打弧等现象，本文基于双极性脉冲变 换器的主电路拓扑，采用状态空间平均法建立了脉冲磁控溅射电源的等效数学模型，设计 了一种 PI 控制电压环与带指数趋近律的滑模变结构控制电流环相切换的复合控制方法， 重 点 对 滑 模 变 结 构 电 流 控 制 方 式 及 抑 制 抖 振 方 法 进 行 了 分 析 与 设 计 ， 并 进 行 了 Matlab/simulink 仿真对比分析，验证复合控制策略的合理性与有效性；再次针对不同类型 的电弧特点，设计了“三重检测”和“两级保护”组合的弧检测与弧抑制方法；最后基于 DSP TMS320F2808 ，设计开发了相应的控制算法和软件程序。 在理论分析与 Matlab 仿真验证的基础上，在一台 6kW 脉冲磁控溅射电源样机平台上， 对新型控制策略进行了实验测试，实验结果验证了本文提出的控制策略的可行性和正确 性，磁控溅射工艺的需求能够得到满足。 关键字：脉冲磁控溅射电源，滑模变结构控制，恒流特性，弧控制 摘要 摘要 Title: THE RESEARCH OF PULSE MAGNETRON SPUTTERING POWER SUPPLY CONTROL STARTEGY Major：Detection Technology and Automatic Equipment Name：Yang LIU Signature: Supervisor：Prof. Xiping HUANG Signature: Abstract Magnetron sputtering technique which is an effective coating crafts is widely used in energy, environment, substances, materials and many other professional fields because of its superior advantages. As a key device of magnetron sputtering equipment, the performance of power supply directly determines the quality and efficiency of the coating deposition. So it is essential to design a good stability and high reliability magnetron sputtering power supply . This paper focuses on the analysis and research of the constant-current and arc suppression characteristics of magnetron sputtering power. Firstly, according to the characteristics of plasma load, we obtained the special needs of the magnetron sputtering power supply; And then, because of the nonlinear characteristic of plasma load result in many problems, such as the bad constant current characteristic, low starter success rate and easy to arc. In this paper, we used the state-space averaging method to establish a mathematical model of equivalent power pulsed ma