光学薄膜理论培训.pptVIP

一、光学薄膜基础知识 二、真空与真空系统 三、薄膜制备技术 （3）真空度 真空度的高低使沉积分子产生碰撞的情况不同，造成蒸汽分子到达基底的动能不同，形成膜层的致密程度不同。 提高真空度，可提高膜层的致密性，减小膜层的吸收。 IR、AR膜系的设定真空度一般是多少？ （4）充氧 在镀膜过程中，有许多氧化物容易失去部分的氧，造成薄膜的吸收。 冲入适当的氧气，有利于减少膜层吸收。 OS-50 no IAD、 SiO2 、 MgF2、H4时的充氧一般为多少？ 3、膜层厚度均匀性 （1）影响因素： 膜料的纯度、是否受潮，以及形状、高低、加料的虚实等。 坩埚位置是否偏。 光斑的大小、形状、位置。 修正板装配是否到位、升降是否正常、有无变形。 盘、工装有无变形，是否放置到位。 真空度的高低。 基板温度的高低。 蒸发速率的快慢。 充氧的大小。 使用IAD的，离子源安装是否到位。 3、膜层厚度均匀性 （2）修正板的修剪方法 使用拉线法将修正板划分为与盘上每一圈对应的区域。 做单层，一般为550nm的3~7个极值。 根据单层曲线找出一直列样品中每一圈的波峰（或波谷）的波长。 （注：尽量选择接近控制波长的那组波峰或者波谷） 选出一个基准波长，用每一圈的波峰（或波谷）波长减去基准波长，得到波长差值。