化学气相沉积法.docVIP

攻读博士、硕士学位研究生试卷（作业）封面 （ 2007至 2008 学年度第 1 学期） 科 目 真空技术与薄膜物理 姓 名 陈 建 彪 专 业 凝聚态物理 入学年月 2006年9月 简短评语 成绩： 授课教师签字： 薄膜制备方法-------化学气相沉积方法 陈建彪 （西北师范大学 物理与电子工程学院 凝聚态物理研究所） 摘要： 本文讨论了有关薄膜制备的方法。其中化学气相沉积法(Chemical Vapour Deposition (CVD) )是通过气相或者在基板表面上的化学反应，在基板上形成薄膜。用化学气相沉积法可以制备各种薄膜材料。选用适合的CVD装置，采用各种反应形式，选择适当的制备条件可以得到具有各种性质的薄膜材料。一般来说，化学气相沉积方法更适合于半导体薄膜材料的制备。用化学气相沉积方法制备薄膜材料时，为了合成出优质的薄膜材料，必须控制好反应气体组成、工作气压、基板温度、气体流量以及原料气体的纯度等。温度和气体的组成比是控制CVD反应的最重要的参数。并结合自己的研究方向，对CVD法制备碳纳米管做了简单论述，做了相关文献的调研整理，进一步深入的了解化学气相沉积法。 关键词：薄膜制备、化学气相沉积法、碳纳米管 引言： 薄膜材料的制备方法和形