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YS/T/ ×××—×××× YS/T/ 554—×××× Ⅰ PAGE 1 YS中华人民共和国工业和信息化部发布××××-××-××实施××××-×× YS 中华人民共和国工业和信息化部发布 ××××-××-××实施 ××××-××-××发布 溅射用钽靶材 Tantalum sputtering targets （送审稿） YS/T××× —×××× 中华人民共和国有色金属行业标准 ICS 77.150.99 H 63 YS/T XXX—XXXX PAGE 1 前言 本标准是按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草的。 本标准由全国有色金属标准化技术委员会（SAC/TC243）归口。 本标准起草单位：宁夏东方钽业股份有限公司。 本标准参与起草单位：宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料有限公司。 本标准主要起草人：XXX、XXX、XXX、XXX、XXX、XXX。 PAGE 8 PAGE 7 溅射用钽靶材 1 范围 本标准规定了用以制备薄膜的溅射用钽靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。 本标准适用于以真空电子束熔炼的高纯钽锭为原料，通过塑性加工、热处理、机械加工、焊接等方法制造的溅射用钽靶材（以下简称钽靶材）。 2 规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本