核分析原理及技术第四章.pptVIP

第四章 粒子激发X射线分析  Particle Induced X-ray Emission ;§1. 基本概念 ;一、电离截面?i(E) ;bn为系数，其值见下表 ;质子、电子、x射线电离截面比较;二、特征X射线的产生 ;三、荧光产额?j ;计算?j的经验公式 ;四、特征X射线发射产额?x(E) ;五、特征X射线的吸收 ; 待分析元素和基体元素同时受激发，若基体元素所发射的特征X射线能量略高于待分析元素的X射线吸收限，那么基体元素的X射线也将激发待分析元素发射出特征X射线，使待测元素的特征X射线得到增强。 ;Fe基体引起杂质元素的增强效应 ;Fe K?对Cr K?和Ca K?的增强效应与质子能量的关系 ;即质子射程。经验公式： ;一、实验装置 ;;探测器：;二、制靶 ;3. 蒸发干燥法：主要针对液体样品，如脑、脊髓液、血清、环境水等。;三、PIXE的本底 ;四、灵敏度 ;Be窗的存在，以及Si(Li)探测器的响应特性，PIXE不易分辨Na以下的元素。 ;提高灵敏度的方法： ;提高灵敏度的方法： ;§3. 谱分析 ;2. 元素含量的绝对测量法;3. 相对测量法;b. 单标测定法（内标法）;其中 ;c. 定标曲线法 ;二、厚样品的分析 ; 为样品表面至探测器的X射线吸收因子（Be窗）， 为X射线在样品中的吸收因子，x1、x2为质量厚度，?1、?2为质量吸收系数。;