等离子体刻蚀工艺控制模型分析-中国科技论文在线.PDFVIP

等离子体刻蚀工艺控制模型分析 王巍1，2，叶甜春2，吴志刚 ，田益祥s b (1．重庆邮电学院，光电工程系，重庆400065；2．中科院微电子研究所，北京1 00029； 3．电子科技大学，a．电子工程学院；b．管理学院，成都610054) 摘要：讨论了主因素分析法以及神经网络法在等离子体刻蚀工艺中的应用。结果表明主元素分析法可 以实现对数据的压缩，而神经网络算法则显示出比传统的统计过程控制算法更好的准确性。 关键词： 等离子体刻蚀：主因素分析法；神经网络法 中图分类号：TN305．97 文献标识码：A 文章编号：l003．353X(2006)02．0ll5．O4 Analysis of Plasma Etching Controlling Model WANG Wei 一，YE Tian—chun ，WU Zhi—gang ，TIAN Yi—xiang (1．College of Optoe