第8章-抛光工艺1.pptVIP

第10章 抛光工艺 主讲:王君 Email: junwqsf@163.com Tel:主要内容 10.1 　抛光的机理 10.2　光圈 10.3　古典法抛光工艺 10.4　高速抛光工艺 10.5　平面抛光工艺 10.6 高精度球面零件的抛光工艺 10.7 高精度平面零件的抛光工艺 教学要求 １、了解抛光的机理，掌握抛光的目的及方法 ２、掌握光圈的识别与度量 ３、掌握两种方法的加工原理、工艺过程及问题的分析处理; ４、了解几种高速抛光的设备及结构参数;高精度零件抛光的工艺特点。 ５、了解加工设备及工装夹具; 10.1 抛光机理 10.1.1 抛光 是精磨以后的一道主要工序。 一、抛光的目的 　1、去除精磨的破坏层，达到规定的表面疵病（Ｂ）； 　2、精修面形，达到规定图纸要求的面形精度（Ｎ、△Ｎ）； 　3、用于控制高精度尺寸公差（平行差、角度误差等） 二、抛光原理 　抛光剂加在抛光模与零件表面之间（也有加在塑料膜内），借助二者相对运动，使零件逐渐抛光成具有一定的面形精度和质量的光学表面。 三、抛光的本质（1） 1、纯机械学说 抛光过程看作研磨过程的继续，尖硬的磨料颗粒对玻璃表面进行微小切削作用是基本的，其依据： 抛光表面有起伏现象; 一定条件下磨料也能作抛光剂; 玻璃重量有明显减轻; 抛光剂颗粒直径在一定范围内，效率与颗粒大小成直线