器件束匀滑性能的影响-中国科技论文在线.PDF

中国科技论文在线 第 l6卷 第 6期 强 激 光 与 粒 子 束 V01．16，NO．6 2004年 6月 HIGH POW ER LASER AND PARTICLE BEAMS Jun．，2004 文章编号 ： i001—4322(2004)06—0749—05 光谱色散匀滑技术对衍射光学 器件束匀滑性能的影响 谭峭峰，严瑛白， 金国藩 (清华大学 精密测试技术与仪器 国家重点实验室 ，北京 100084) 摘 要 ： 模拟分析了光谱色散匀滑技术对衍射光学器件束匀滑性能的影响。光谱色散匀滑技术 的使用 提高 了衍射光学器件 的抗波前畸变能力 ．降低 了对加工精度 的高要求 。光谱色散匀滑技术与衍射光学器件的 联用有望满足惯性约束聚变对束匀滑性能的高要求 。 关键词 ： 光谱色散平滑 ； 衍射光学器件 ； 束匀滑 中图分 类号 ： TN248 文献标识码 ： A 惯性约束聚变 (ICF，inertialconfinementfusion)对束匀滑光强分布提 出了很高的要求 ，衍射光学器件 (DOE)是实现束匀滑的一种行之有效的空域技术途径 ，但在实际使用中，存在两个制约因素 ，一个是 DOE对 入射波前畸变很敏感 ；另一个是 D0E对加工精度要求很高 。对 于国内强激光系统与 D0E加工工艺水平 ，目 前很难突破这两个制约因素 ，因此不可能单独使用 DOE就能满足 ICF对束匀滑的高要求 。国内外研究均表 明，要满足 ICF对束匀滑的高要求 ，仅采用空域匀滑技术是不够的，要联合使用空域 、时域匀滑等多种技术 ，包 括光谱色散匀滑 (SSD，smoothingbyspectraldispersion)，D0E，偏振光楔 ，多光束叠加等等[1]。 本文模拟分析了SSD对 DOE束匀滑性能的影响，模拟结果表明，这两种技术是相辅相成的，SSD能提高 DOE的抗波前畸变能力 ，降低 DOE对加工精度的高要求，改善光强分布的 “匀滑”程度 ；而 DOE能满足光强分 布的 “平顶”要求。SSD与 DOE的联用有望满足 ICF对束匀滑性能的高要求 。 l SSD原理 ：电光晶体位相调制 如图 l所示，平行于 X轴方向的偏振光入射至电 光晶体 ，沿 Z向传播 的只有沿X 轴方向的光矢量 ，当 外加 电压 改变时，折射率 rlX也随之改变 Anx，一 n3763Ez／2 (1) 式中：n。是 自然状态下电光晶体的折射率；y6是线性 电光系数 。 经过长度为L的电光晶体，引起的位相变化为 Fig．1 PrincipleofSSD △ 一 (2~／2)Anx—L一 (7c )n3y63EzL (2) 图 1 SSD原理 若加在晶体上的偏置电场随时间变化 ，例如呈正 弦变化 ：Ez—E sinm ￡，设在晶体前表面的入射光场为U。=Acoswt，则晶体后表面输 出光场为 U—Acos{ 一(27c )[no一(n／2)y63U sinwt]L) (3) 忽略常数项，则U=Acos[oJt+ inoJ￡]，p为位相调制系数，位相随时间的变化为 口(￡)=cu￡+ inoJ￡，则瞬时频 率为 = cu+ cuc。scu￡= cu一 27c厂 (4) 在传播过程中，光波频率 (光波波长)随时间发生周期性变化 ，但光的传播方向不发生改变，因此，在 ICF 靶场光学系统 中，需利用光栅进行色散 ，在靶面不同时刻产生不同的偏移量。 * 收稿 日期 ：2003-II-I7； 修订 日期 ：2003-12-29 基金项 目：国家 863计划项