第5章真空合成.pptVIP

第四章 真空合成 基本概念 “真空”这一术语译自拉丁文Vacuo，其意义是虚无。其实真空应理解为气体较稀薄的空间。 真空的概念： 物理学上是指没有或者不计气体分子和原子存在的物理空间，仅存在各种能量粒子的场空间。 真空：是指在指定的空间内，低于一个大气压力的稀薄气体的空间状态。 真空度的划分： 真空状态下气体稀薄程度称为真空度，通常用压力值表示。 1标准大气压(1atm)≈1.013×105Pa(帕) 1Torr≈1/760atm≈1mmHg 1Torr≈133Pa 真空的特点: 高真空气体的行为与常压下有区别： （1）在真空中，气体分子密度低，在某些情况下，真空可以近似地看作 没有气体“污染”的空间。 （2）真空中，气体分子或带电粒子的平均自由程为： （3）真空中分子之间碰撞频率很低，有些情况下分子间的碰撞可以忽略。 同时，分子与固体表面碰撞的频率也极低。 因此，通过真空可以得到： 1)“原子清洁”的固体表面——表面结构、表面组分及表面能态等基本研究。 2) 纯净的制备环境——超纯样品、精确掺杂、镀膜技术。 3）模拟空间环境 真空技术： 真空技术已经成为一门独立的学科。 它的基本内容包括： 1）真空物理 2）真空的获得 3）真空的测量和检漏 4)真空系统的设计和计算等。 随着表面科学、空间科学高能粒子加速器、