我的真空考卷.docVIP

答：1、真空的特点是：（1）气压低于一个大气压的气体状态，单位体积中的气体分子数大大减少；（2）分子平均自由程增大；（3）气体分子之间之间的相互碰撞频率降低；（4）气体分子与其它粒子之间的相互碰撞也随之减少；（5）活化气体的密度低。 2、真空技术在薄膜材料制备中应用有: （1）脉冲激光沉积 脉冲激光沉积是一种新的薄膜制备技术，激光光源可采用大功率准分子激光器。高能量的激光束透过窗口进入真空室，经棱镜或凹面镜聚焦，聚焦后的激光束功率密度很高，它照射到原材料上，使之加热气化蒸发。靶表面吸收的激光束的能量会引起靶原子的激发，靶表面的烧蚀蒸发。蒸发物在靶前形成一个由荷能的中性原子、分子、离子、电子、原子团、微尺度的微粒和熔化的液滴混合组成的羽状聚集体。当聚集体到达基片时，便在基片上凝聚而形成薄膜。基片和靶材都是放在真空室内的，开激光器之前首先要对真空室抽真空，开机械泵把真空室抽到3Pa以下，接着开分子泵，抽到 SKIPIF 1 0 Pa以下，即可进行工作。通常抽完真空后，在真空室中通入 SKIPIF 1 0 、 SKIPIF 1 0 等气体，以增强表面反应或保持薄膜的化学计量比。这时真空室还是应该保持在低真空状态下。 (2) 溅射镀膜 用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上。溅射现象于1870年开始用于镀膜技术，1