电解抛光化学抛光.ppt

組員：9913004洪琬婷 、9913006何怡真 　　　9913010郭冠俞 、9913018廖敏琪 　　9913019林于馨、 9913058張　宇 9913064陳凱玲 第五組-拋光 　　物理拋光是利用細小而堅硬的顆粒物質在被拋光物體表面高速摩擦使其光滑的方法。用鞋油擦鞋，用牙膏（滑石粉）擦玻璃，砂輪磨床都是物理拋光的具體運用。 拋光原理和運用 　　工件進行擦光的加工方法。工作時，一般用附有磨料的布、皮革或木材等軟質材料的輪子(或者用砂布、金屬絲刷)高速旋轉以擦拭工件表面，提高其表面光潔度。此外還有其他方法如液體拋光、電解拋光、化學拋光、物理拋光等。 1.電解拋光 　　所謂電解拋光，即是將工件放置陽極，於電解液中通電，在適當操作參數下，使工件發生電解反應（亦稱反電鍍），工件表面而因電場集中效應而產生溶解作用，因而可達成工件表面平坦與光澤化之加工技術。電解拋光技術於1931年，由D.A.Jacquet發明採行。「電解拋光」技術可廣泛運用在半導體製程設備、化工、航太以及其他高精密等表面處理加工。 (一) 陽極膜飽和效應(黏度效應)：電解抛光過程中，將產生厚約0.1mm的陽極膜(anode film)，陽極膜呈黏膜狀，具高電阻，金屬帶正電離子不易擴散出與陰極離子結合，因此電流不易通過。由於表面凹陷處電解液流動較慢，易形成飽和陽極膜，電流密度因而降低；而尖突處電解液流動較快