溅射沉积模型磁控溅射.PPT

多元/多结构/多界面碳基复合薄膜平台与研究 基于类金刚石碳基薄膜的阻性电极基材制备 2018年10月13-14日 On behalf of the resistive DLC collaboration 第八届全国先进气体探测器研讨会 · 衡阳 报告人：尚伦霖 张广安 固体润滑国家重点实验室，中国科学院兰州化学物理研究所 报告提纲 1、DLC及其制备方法介绍 2、实验室研究平台和已有工作基础 3、DLC阻性电极基材的制备 4、总结和展望 DLC: 由金刚石结构的sp3杂化碳原子和石墨结构的sp2杂化碳原子构成 金刚石结构（绝 缘体，超高硬度） 石墨结构（导 体，低硬度） 类金刚石结构（介于绝缘 体和导体之间，高硬度） a-C：非晶碳 ta-C：四面体非晶碳 a-C:Me (Me=W, Ti, Mo, Al等)：金属掺杂非晶碳 a-C:H: 含氢非晶碳 ta-C:H: 四面体型含氢非晶碳 a-C:H:Me (Me= W, Ti, Mo, Al等)：金属掺杂含氢非晶碳 a-C:H:X (X=Si, O, N, F, B等)：改性含氢非晶碳 DLC及其制备方法介绍 DLC具有xxx，xxx等优点，很适合用于制作微结构气体探测器的阻性电极。 DLC在微结构气体探测器中的应用前景 微结构气体探测器（Micro-Pattern Gas Detector，MPGD）具有位置分辨好、计数率能力高、工作性能稳定、抗辐射能力强、成本造价低廉、易大面积加工制作等优点，因此在当前的大型核与粒子物理实验中得到了广泛的应用； 放电打火是微结构气体探测器的“公敌”； 阻性电极是抑制微结构气体探测器发生打火放电的有效（唯一）手段。 DLC薄膜沉积机理 薄膜沉积中原子的运动状态以及薄膜的生长过程 薄膜的三种生长方式 （1）复杂的物理化学过程； （2）原子与基体发生完全非弹性碰撞、部分弹性碰撞、完全弹性碰撞三种现象； （3）留在表面的吸附气相原子在基体表面上扩散迁移，互相碰撞结合成原子对或小原子团，并凝结在基体表面上； （4）薄膜行程过程一般可分为凝结过程、核形成与长大过程、岛形成与生长过程。 （1）岛状生长模式：原子、分子间的结合远强于其与基体的结合强度； （2）层状生长模式：原子、分子间的结合弱于其与基体的结合强度，依次覆盖、层状生长； （3）层岛复合生长模式：先层状生长，后由于点阵失配、表面能高和原子键合等因素而改变 DLC及其制备方法介绍 物理气相沉积（PVD） 离子束沉积（IBD） 阴极电弧沉积（CVAD） 脉冲激光沉积沉积（PLD） 溅射沉积模型 磁控溅射（MS） 闭合场非平衡磁控溅射（CF-UBMS） DLC及其制备方法介绍 化学气相沉积（CVD） 热丝化学气相沉积（HFCVD） 等离子体增强化学气相沉积（PECVD） 直接光化学气相沉积（DPCVD） 电子回旋共振化学气相沉积（ECR-CVD） DLC及其制备方法介绍 物理气相-化学气相复合沉积（HPCVD） Solid source vaporize Reactive gas (N2,CxHy,NH3···） Inert gas (Ar） Solid source vaporize samples （1）包含前驱气体化学分解与固态材料的蒸发或溅射过程； （2）适合复杂工件表面处理，对基体表面进行等离子体刻蚀增加结合力； （3）通过解离前驱气体沉积电阻率大、厚度大的含氢DLC DLC及其制备方法介绍 实验室DLC薄膜沉积设备 实验室已有工作平台和工作基础 非平衡直流磁控溅射 多弧-磁控耦合溅射 等离子体增强化学气相沉积(自主研制) 射频磁控溅射 非平衡直流磁控溅射 高能粒子注入(自主研制) DLC的表征方法 SEM观察DLC薄膜截面(a)和表面(b)微观形貌 (a) (b) 非晶基质 纳米晶团簇 TEM观察DLC薄膜微观结构 Raman观察DLC薄膜中各种碳相键合状态， 1500cm-1附近出现不对称的宽峰，高斯拟合为D峰和G峰 XPS精细谱可拟合出C-C键、C-O键、C=O或者O-C=O键； C-C键结合能的强峰进一步拟合出sp3峰和sp2峰 实验室已有工作平台和工作基础 总体思路：研、产、用相结合，推进材料体系用于高技术领域 多元/多结构/多界面设计DLC复合薄膜体系 DLC在工程领域应用 基于理论模拟计算对DLC摩擦学机理研究及设计 全书92万字 获国家技术发明二等奖1项；省级一等奖1项；申请专利40项，授权26项；专著2部；论文三百多篇 实验室已有工作平台和工作基础 DLC阻性电极基材的制备 1、阻性DLC电极基材的制备方法—CF-UBMS 样品装夹固定 抽真空(＜10-5Torr) 沉积DLC薄膜 冷却取样品 样品烘烤处理 样品预处理 2、阻性DLC电极基