工艺制程液晶面板行业学习.pptx

液晶面板行业学习 ;前段Array制程 工序说明;3;4;5;6;7;8;9;10;11;ITO膜层（Indium Tin Oxide，透明导电金属） 液晶分子的运动与排列都需要电子来驱动，因此在液晶的载体——TFT玻璃上，必须有能够导电的部分，来控制液晶的运动，这里将会用ITO来做这件事情。 ITO是透明的，也成薄膜导电晶体，这样才不会阻挡背光。 液晶分子排列的不同以及快速的运动变化，才能保证每个像素精准显示相应的颜色，并且图像的变化精确快速，这就要求对液晶分子控制的精密。ITO薄膜需要做特殊的处理，就犹如在PCB板上印刷电路一般，在整个液晶板上画出导电线路。;13;14;15;16;;Sputter Chamber的主要构成有： ---Platen：用来放玻璃基板 ---Cathode：包括Target、Shield 、Magnet Bar等构成部分 ---Motor：有Plate转动的Motor 、Plate 升降的Cylinder、 Cathode开关的Motor 、Magnetic Bar运动的Motor等。;;通过以上的流程整块TFT玻璃上就有了一层平滑均匀的ITO薄膜。然后用离子水，将ITO玻璃洗净，准备进入下一步骤。;Array-ITO设备;22;23;24;25;;在涂好光刻胶的玻璃表面覆盖掩膜版，通过紫外光进行选择性照射，使受光照部分的光刻胶发生化学反应。用紫外光（UV）通过预先制作好的电极图形掩模版照射光刻胶表面，使被照光刻胶层发生反应，在涂有光刻胶的玻璃上覆盖光刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光。;我们以一个像素单位为例，如下图，这个像素中，浅色部分未曝光，而深色的是曝光部???。;扫描曝光方式（scanner） 高压水银灯发出的UV光通过光路传导到 Arc Slit forming Unit后变成弧形光，之后垂直照在Mask上，再通过UM光学系统使光线平行的射到Plate上面,将mask上的图形成像在Plate上。曝光时Mask和Plate同时运动完成曝光.;33;显影流程;显影设备大致结构;33;34;35;蚀刻;Etch蚀刻工艺;Etch蚀刻工艺;;Etch蚀刻工艺;;Chiller;Strip剥膜工艺;Strip剥膜工艺;Array-Etch/Strip设备;50;Array制程最终完成图;48