铟锡氧化物 (ITO) 靶材的应用和制备技术.pdfVIP

第22卷　第1期 昆　明　理　工　大　学　学　报 V o l. 22 N o. 1 　1997年2月　 JOU RNAL O F KUNM IN G UN IV ERST Y O F SC IEN CE AND T ECHNOLO GY Feb. 1997 铟锡氧化物( ITO ) 靶材的应用和制备技术 1 2 3 4 钟　毅 　王达健 　刘荣佩 　郭玉忠 ( 1, 3, 4 2 ) 昆明理工大学材料工程系 , 冶金系 , 昆明　650093 摘要　对铟锡氧化物( ITO ) 靶材的现有生产工艺方案和应用现状及前景作了综 合评述. 提出了 ITO 靶材成形的新方案——动态成形 技术. 关键词　ITO ; 靶材成形; ITO 粉末; 应用 中图分类号　 3 T G 铟在自然界是稀散金属, 在矿床中常与锡伴生. 已探明我国某矿床的铟储量为440 t , 年冶炼铟的生产能力为40 t. 全世界每年铟的生产能力约为150 t , 我国年冶炼铟可达50 t , 居世界首位. 然而我国铟金属主要供外销, 对其深加工高新技术产品尚处于起步阶段. 为使资源增值, 合理利用铟资源的重要途径之一是生产 ITO 靶材. 近年来我国引进了多 条 ITO 膜生产线, 为制备高性能的膜, 必须 优先发展高质量的 ITO 靶材, 但其靶材由国 外供给, 国外对 ITO 靶材制备技术严密封锁. 为此, 有必要对现有 ITO 靶材生产技术作 充分地了解, 开发制备 ITO 靶材的新技术. 1　应用现状及前景 靶材是用作镀膜的材料. ITO 靶材的应用就必须从 ITO 膜的应用出发. 铟锡氧化物( ITO ) 薄膜具有对可见光透明和良好的导电性. 其对可见光透过率≥ 95% ; 对紫外线的吸收率≥85% ; 对红外线的反射率≥70% ; 对微波的衰减率≥85% , ITO 膜层硬度高且耐磨耐蚀, 因而在工业上获得了广泛应用. 按照美国铟公司对全世界铟的需求量所作的推算与预测: 1989年为102. 6 t , 1991年 达171. 1 t , 铟产量的增长是基于 ITO 膜的需求量, 特别是在玻璃工业及液晶显示器上的 发展. 在全世界铟市场中日本占有率最高, 达到65%～ 70% , 日本国内最大的铟需求领域 是液晶电视机的 ITO 透明电极, 日本1992年的 ITO 用量比1991年提高30% , 1993年消耗 的铟约28 t , 其中56% 用于 ITO 膜. 预计1995年日本 ITO 市场可达80亿日元. ITO 薄膜及靶材的快速发展是由于它具有优良特性和广泛应用前景. 自1988年以 来, 大量的铟用于制作 ITO 液晶显示装置, 如计算器和电脑的透明导电玻璃膜、手表、挂 钟等, 汽车制造业已开始应 用 ITO 防雾膜, 予计在工业及民用建筑业中将很快得到普 及. ITO 膜能防静电、防雾除雾. 可应用于需要屏蔽电磁波的地方, 如计算机机房、雷达 的屏蔽保护区, 甚至防雷达飞机上. 国内已成功地将 ITO 膜应用于平面及曲面飞机风 收稿日期: 1996- 12- 02 © 1995-2004 Tsinghua Tongfang Optical Disc Co., Ltd. All rights reserved. 第1期 钟　毅等: 铟锡氧化物(