多晶体X射线衍射分析应用之五薄膜表面结构分析.pptVIP

多晶体X射线衍射分析的应用之五薄膜表面结构分析 燕山大学材料学院综合实验室 燕山大学材料学院国家实验教学示范中心 常用的X射线衍射分析薄膜的方法有： 1) 所形成的薄膜的层厚及均匀性(多层膜)——用小角X射线散射装置进行长周期散射的位置及各峰宽的测定。 2) 所形成的薄膜的层是由何种元素构成的(多层膜)——用小角X射线散射装置进行长周期强度的测定。 3) 所形成的薄膜层的结构测定——对所测定衍射图形进行定性分析(用PDF卡片进行物相检索)。 4) 所形成的薄膜层的晶体结构与距表面的距离变化的信息——使用薄膜X射线衍射法，采用低掠入射角法，对逐步改变X射线入射角时所得到的衍射图形进行定性分析。 一、薄膜X射线的光学系统 薄膜X射线衍射法的原理是为低掠入射角法，即低的入射角法。如图所示： 对掠入射薄膜测试，一般应采用平行光束法。 进行薄膜测定时，两点注意： 1) 一定要采用低的掠入射角； 2) 当进行表面深度方向状态分析时，要提高入射X射线的平行度。 二、有效穿透深度 在低掠入射角法条件下，有效X射线穿透深度表示为： t＝－ln(1－It/I?)sin?0sin?/?(sin?0+sin?) 令 L＝－ln(1－It/I?) 则 t＝L sin?0sin?/?(sin?0+sin?) 当 ?0? 时， sin?0 sin? 则 t＝L sin?0/? 式中L为实验常数，约为0.13 可见：X射线有效穿透深度(t)与入射角?0、反射角?，以及试样吸收性质(?)有关。 由上式可以获得以下信息： (1) 有效X射线穿透深度随?0的减小而变浅； (2) 当?0很小时，有效X射线穿透深度几乎不随反射线变化，即对于不同反射线(2?不同)，穿透深度近似等于常数。 于是，我们得出一个重要结论，在一定范围内改变?0取值，可以控制有效X射线的穿透深度。 应用实例－深度分析 应用实例二－取向变化 对薄膜多数条件下都是存在取向的，当薄膜很薄时，很难用极图来测量，采用不同角?0测量，根据不同?0角时，hkl衍射线强度的变化可以判断取向的变化。 三、单晶、外延膜的X射线?扫描分析 X射线衍射仪的常规?－2? 扫描只能对平行于试样表面特定晶面进行检测。而不能区别时单晶。外延膜或具有的特定取向的面织构。X射线?扫描可探测与单晶或外延膜宏观表面成确定夹角的某个选定晶面。因此，它可以判定单晶材料的单晶性及外延膜的单晶性。也可以逐个检测出每层膜的某个选定晶面，故能研究各膜之间外延生长的取向关系。 1、原理 在?扫描中，?角是入射线与被检测单晶(或外延膜)某一晶面的夹角。被测晶面并非为单晶(或外延膜)的宏观表面。被检测单晶(或外延膜)某一晶面与其宏观表面(也是一特定晶面)间存在夹角??。对于立方系，夹角??可由下式表示： 这样，入射线与试样的夹角?可表示为： ?＝ ?－ ?? 即入射线与单晶(或外延膜)宏观表面间的夹角?被确定。 ?扫描中在其试样自身平面内转动，而转动到被测晶面，该晶面与宏观表面存在特定的角度关系，则晶面可以唯一确定。 2、测试方法 欲对某一外延膜进行?扫描。 (1) 确定?角 a) 表面为特定晶面(h1k1l1)，被测晶面为(h2k2l2)，根据晶面夹角公式可求出??； b) 根据及晶胞参数求出d进而根据布拉格方程求出?角； c) 再由公式?＝ ?－ ??，即可求出?角 (2) 测试 a) 通过X射线衍射仪2?轴的单独旋转，将探测器转动到2?位置。 b) 通过? 轴的单独旋转使试样表面与入射X射线成?角，即? 轴转至?角位置； c) 实施?扫描，试样在其表面内缓慢匀速转动。 ?扫描的图谱是0～360?内如干个(h2k2l2)衍射峰，峰的个数取决晶体的对称性。选取晶面具有几次对称轴，就有几个均匀分布的衍射峰。峰的形状和外延膜的质量有直接的关系。 3、实例 图为双外延晶界结构图。采用磁控溅射工艺制备的超导薄膜。在SrTiO3(110)基片外延生长MgO种子层。将种子层刻蚀一半保留一半，其上外延CeO2隔离层。再外延超导膜 在2?为20～80?扫描内对基底表面进行?－2?扫描，出现CeO2的(002)和(004)峰，说明试样表面为CeO2 (100) 晶面。 选取CeO2的(2