低频电子电路02章20120305.pptVIP

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  • 2019-07-03 发布于山东
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2.2.3 场效应管与晶体管性能比较 项目 ? 器件 电极名称 工作区 导电 类型 输入电阻 跨导 晶 体 管 e极 b极 c极 放大区 饱 和 区 双极型 小 大 场效应管 s极 g极 d极 饱和区 非饱和区 单极型 大 小 第二章 半导体受控器件基础 * 需两个动画 * 需两个动画 * 需两个动画 * 需两个动画 * 需两个动画 栅极电压对沟道厚度的影响分析 N沟道DMOS管工作原理 vGS =夹断电压VGS(off) ,D、S之间已有导电沟道消失。 第二章 半导体受控器件基础 恒定 vGS下的 vDS - iD 关系曲线分析 N沟道DMOS管工作原理 第二章 半导体受控器件基础 N沟道DMOS管工作原理 第二章 半导体受控器件基础 解析表达式: 此时MOS管可看成阻值受VGS控制的线性电阻器: VDS较小的非饱和区时,iD与vDS之间呈近似线性关系: 其中:W、l 为沟道的宽度和长度。 COX (= ? / ?OX)为单位面积的栅极电容量。 注意:非饱和区类似于晶体管的饱和区。 第二章 半导体受控器件基础 若vGS等于零,记iD的为IDSS ,称为饱和漏电流 处于饱和区时,管子具有正向受控作用,服从平方律关系,称为转移特性: 第二章 半导体受控器

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