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- 2019-07-07 发布于未知
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6.5.1挤压珩磨的基本机理 6.5.2挤压珩磨的工艺特点 6.5.3粘性磨料介质 6.5.4挤压珩磨的夹具 6.5.5挤压珩磨的加工后处理 6.5.6挤压珩磨的加工后处理 6.5.7挤压珩磨的应用 小结 作业 6.5 挤压珩磨抛光 6.5.1 挤压珩磨的基本机理 挤压珩磨是利用一种含磨料的半流动状态的粘性磨料介质,在一定压力下强迫通过被加工表面,由磨料颗粒的刮削作用去除工件表面微观不平材料的工艺方法。如右下图所示。 挤压研磨抛光属于磨料流动加工,也称 挤压研磨。它不仅能对零件表面进行光整加 工,还可以去除零件内部通道上的毛刺。 6.5 挤压珩磨抛光 6.5.2 挤压珩磨的工艺特点 1)抛光效果 加工后的表面粗糙度与原始状态和磨料粒度等有关,一般可降低为加工前粗糙度值的1/10,最低的粗糙度Ra可以达到0.025μm。 2)材料去除速度 材料去除量在0.01~0.1mm之间,加工时间通常为1~5min,最多十几分钟即可完成。 3)加工精度 切削均匀性可以保持在被切削量的10%以内,可以达到较高的尺寸精度,一般尺寸精度可控制在微米的数量级。 6.5 挤压珩磨抛光 6.5.3 粘性磨料介质
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