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原子光刻技术 摘要 与光子和电子不同，原子的激发亚稳态具有方便操作的内能态结 构，这使利用内能态的光学灭原理实现光刻技术成为现实。基于原 子光学的中中性原子束光刻技术是下一代光刻技术(the next generation lithography,NGL)的一种，它可分为两种途径实现：激光 驻波原子直沉积技术和亚稳态中性原子光刻技术。前者可以实现图案 的纳米尺度特征、大面积平行沉积和高分辨率；后者结合有效的抗蚀 剂，同样可以实现纳米图形制造。在基板上获得的尖锐边缘分辨率目 前可达40nmo两种途径的原理相差甚远，但最终获得的结果相似。 文章对原了光刻进行了深入的分析，介绍了基本概念、工作原理、 相关实验方案，针对原子光刻的原子捕获、激光稳频、原子束聚焦和 沉积等关键技术，进行了分析和讨论。 关键词：原了光刻；原了光学；纳米结构；激光稳频；原了束沉积 0.绪论 光刻技术是纳米结构制作的重要工艺，通过增大光刻物镜的数值 孔径（N.A）和缩短曝光波长，可以提高光刻系统的分辨率。但当光 刻图形的尺寸小于100nm时，光学光刻面临着很大的挑战。原子光 刻是一种利用原子束实现刻印的新方法。作为原子光刻中的原子拥有 X射线、电了束及离了束等刻印媒体所不具备的特点。 自20世纪60年代，集成电路技术得到迅速发展，集成规模越来 越大，集成效率越来越高。传统光刻技术及电子束光刻技术是半导体 工业中常用