应用于固体样品直接分析的射频辉光光谱中等离子体空间解析的初步.PDF

冶金分析 ,2009 ,29 (8) : 16 Met allur gical Analysi s ,2009 ,29 (8) :16 ( ) 文章编号 :1000 - 757 1 2009 08 - 000 1 - 06 应用于固体样品直接分析的射频辉光光谱中 等离子体空间解析的初步研究 P ISON ERO J 1 ,V ALL EDO R R1 ,N EL IS Th2 ,BO RD EL N 1 ,M ED EL A Sanz3 ( 1 奥维耶多大学物理系 ,西班牙 ;2 法国科学研究中心 ,法国;3 奥维耶多大学物理分析化学系 ,西班牙) 摘 　要 :设计了一种新的实验设备用于研究发射光谱的射频辉光中原子和离子的空间分布 。 通过测量沿等离子体羽流的不同原子和离子的发射强度来研究发生在等离子体内部的激发/ 离子化过程 。该报导对辉光源与质谱联用的优化有较大意义 ,如离子提取的最佳位置 。初步 研究了连续和脉冲射频辉光光谱中等离子体的空间解析 ,尤其对影响发射信号的输入功率 、压 强及 占空比等参数进行了评价 。 关键词 :射频辉光 ;发射光谱 ;空间解析 中图分类号 :O6573 1 　　　　文献标识码 :A 　　由于等离子体具有直接从固体样品产生原子 作可以提高在高等离子体功率下的热稳定性 。随 或离子的能力 ,射频辉光技术作为等离子体发射源 后 ,L ewi s 等[9 ] 比较了在毫秒脉冲辉光发射中空 已经被广泛应用于发射光谱或质谱的联用中。这 间和时间上的发射特征 ,发现对于工作循环和辉 种技术的一个主要优势在于原子化和激发/ 离子化 光发射的工作模式来说 ,后峰的发射特征没有明 过程在空间上和时间上是相互分开的,从而降低基 显的变化 。 体作用的影响。此外 ,射频辉光发射光谱是一种快 在最近的几年里 ,采用可见光谱和质谱对脉冲 捷 、方便而且准确的分析技术 ,它能够对导体和非 辉光发射的理解有了很大的进展 。然而对于脉冲 导体的样品进行表面和深度的剖面分析[ 1 2 ] 。 辉光发射的特有行为还没有得到令人信服的解释 。 一方面 ,射频辉光光谱是一种非常快速的深 在本研究中 ,我们开发了一种采用辉光发射 ( 度剖面分析技术 ,在多种薄膜或超薄膜 有机涂层 源和可见发射光谱联用的实验设备 ,用来调查等 ) [3 ] 或电沉积薄膜等 的定量分析中具有应用潜力 。 离子体气流激发放电源的发射特征 。特别是 ,我 ( ) 另一方面 ,飞行时间 TO F 质谱仪可以在较大的 们给出了在用来直接分析固体样品辉光发射可见 质量范围内进行质谱的准同步采集 ,与辉光放电 发射光谱连续的和脉冲的工作方式下等离子体空 技术联用的辉光质谱仪可以拓宽在表面或界面含 间解析的初步研究 。 量的深度剖面分析方面的应用[45 ] 。 1 　实验部分 此外 ,近期的研究表明,对于与可见光谱仪和飞 行时间质谱仪的联用直接分析非导体材料、聚合物 辉光放电源包括一个待分析的样品做平板阴 以及可能的生物材料来说 ,射频辉光源的脉冲工作 极 ,放置于具有 4 mm 直径的管