有机合成中的常用保护基59508课件.pptVIP

* 2.氨基甲酸酯类保护法 由氨基与氯代甲酸酯、重氮甲酸酯或各类碳酸酯反应制备 脱除方法：催化氢解（Cbz）、酸性水溶液（Boc）、碱性消除（Fmoc、Teoc、Troc）、金属参与（Alloc） * 叔丁氧甲酰基 (Boc) 形成保护 * 脱除保护 * 苄氧甲酰基 (Cbz) 形成保护 * 脱除保护 * 9-芴甲氧甲酰基 (Fmoc) * 3.磺酰胺类保护法 N保护基中最稳定的 脱除保护的难易程度与胺的结构有关 弱碱性胺（如吲哚、吡咯、咪唑）的磺酰胺可通过简单的碱性水解脱除 伯胺或仲胺的磺酰胺则需要强烈的还原条件 对强酸条件稳定 * 芳香磺酰胺 * * 4.N-烷基胺类保护法 * * 5.亚胺类保护法 芳香醛、芳香酮、脂肪酮与伯胺形成的亚胺是稳定的 脂肪醛与与伯胺形成的亚胺是不稳定的 * * 其他基团的保护 硫醇、硫酚：与醇、酚类似 磷酸：磷酸酯 * 二叔丁基亚硅醚 保护1,2、1,3-二羟基 稳定性较丙酮化合物、苯基亚甲基缩醛差 在温和氧化剂（DDQ、Dess-Martin）、LA（BF3、TiCl4）、质子酸（CSA）等条件下稳定 * 1,1,3,3-四异丙基二硅氧醚 * 四、羰基的保护 醛、酮、酸、酯和酰胺 具有良好的亲电性 反应活性：醛（脂肪醛芳香醛）支链酮和环己酮环戊酮α,β不饱和酮或α,α二取代酮芳香酮 缩醛：O,O-缩醛、S,S-缩醛、O,S-缩醛、O,N-缩醛 * 1. O,O-缩醛 形成保护 质子酸或Lewis酸催化 醛比酮容易更形成缩醛 环状缩醛比非环状缩醛更容易形成 非共轭羰基比共轭羰基容易形成缩醛 有空间位阻的羰基不易形成缩醛 对于芳香醛或酮，有吸电子取代基时易形成缩醛，有给电子取代基时不易形成缩醛 同一个碳原子上有两个取代基的二醇更容易与羰基形成环状缩醛 对很多的还原试剂、氧化试剂、碱性条件等稳定。 * * 共轭酮基的双键移位；脱除保护基后能复位 * 脱除保护 质子酸或Lewis酸催化 酮的缩醛比醛的缩醛水解速率快 缩醛的碳原子上的取代基，能否稳定碳正离子，则有利于水解反应；如果不能稳定碳正离子（羰基、硝基、三氟甲基），则不利于水解反应。 环状缩醛的水解速率与环的大小有关，1,3-二氧戊烷的水解速率小于1,3-二氧六环 环戊酮的缩醛水解速率大于环己酮的缩醛水解速率 有取代基的环状缩醛水解速率小于没有取代基的相应的环状缩醛。 非环状缩醛比环状缩醛容易水解 * 0.003M HCl的二氧六环-水溶液中(7:3)，30oC下的相对水解速率： * 2. O,O-二乙酰基缩醛 也称为1,1-二乙酸酯 Lewis酸催化乙酸酐与醛基反应形成保护 质子酸和Lewis酸催化其水解而脱除保护 在中性和碱性条件下稳定 * 形成保护 * 脱除保护 * 3. S,S-缩醛 S,S-缩醛比O,O-缩醛更稳定，易形成 在酸性和碱性条件下都稳定 形成：质子酸、LA，硫醇、二硫醇 脱除：氧化法、重金属参与法 气味 催化剂中毒 * 形成保护 * 脱除保护 * 应用 * 4. O,S-缩醛 稳定性介于O,O-缩醛和S,S-缩醛之间 酸性水溶液中，比O,O-缩醛稳定，但比S,S-缩醛活泼很多 对于Hg2+、Ag+促进的脱保护反应，比S,S-缩醛活泼很多 * 形成和脱除 * 五、羧基的保护 酸性（pKa约为3~6） 易与碱或LB发生反应（保护首先是遮盖其酸性） 亲电性（抑制亲电性，可使用较大空间位阻的保护基） 主要是保护羧基的质子，以形成酯类化合物为主 脱除保护的主要方法是水解 水解速率取决于空间因素和电子因素 * 合成羧酸酯的通用方法 酸与醇反应 催化剂：质子酸、弱酸、DEAD-PPh3（Mitsunobu反应）、DCC-DMAP（Steglich酯化法）、CAN、TMSCl、DMAP-Boc2O 酰氯、酸酐与醇反应 加入弱酸来中和形成的酸，DMAP、甲基咪唑、LA催化 其他方法 羧酸与卤代烃反应、羧酸盐与卤代烃反应、羧酸与重氮烷反应、羧酸与烯烃反应 * * 1. 甲酯保护法 形成保护 * 脱除保护 碱金属的氢氧化物或碳酸盐 * 2. 叔丁酯保护法 空间阻碍大，亲核试剂不宜进攻其羰基 碱性溶液中水解速率慢 叔丁基碳正离子稳定，酸性条件下易水解 * 形成保护 * 脱除保护 * 3. 苄基酯保护法 形成保护 * 脱除保护 * 用于羧基的其他保护基 取代甲基酯 乙酯、乙基酯 烯丙基酯 硅烷酯类 酰胺 。。。 * 六、氨基的保护 含孤对电子 易取代反应和氧化反应 氨基甲酸酯（肽、蛋白质的合成） 酰胺（生物碱、核苷酸的合成） 磺酰胺 N-烷基 亚胺 * 1.酰胺类保护法 常用酰化试剂：酰氯、酸酐 稳定性好，较强的酸、碱溶液和加热水解 稳定性顺序：PhCONHRCH3CONHRHCONHR; C