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江 南 大 学 研究生论文开题报告 学院 通信与控制工程 专业 控制工程 研究方向 ①控制工程与应用 学号 G080401036 研究生姓名 胡俊前 学位级别 工程硕士 导师姓名 刘国栋 填表日期2010年5 月 8 日 注：此表为研究生在导师或指导小组的指导下，由研究生本人填写，经导师、教研室主任、院（系）分管研究生工作的负责人审阅后，报研究生部备案，非经同意不得改动。 论文题目 基于PLC控制的真空镀膜生产线的设计 本人已查阅过哪些科研资料及调研情况： 本文是在撰写过程中主要参考了以下文献和资料： 磁控溅射镀膜工艺文件（内部资料）； 《真空镀膜技术》冶金工业出版社 张以枕 《真空镀膜技术与设备》合肥工业大学内部教材 杨占文 《真空设计手册》国防工业出版社 电气控制操作说明书（内部资料）； 欧姆龙PLC操作使用说明书； 基于控制网络的PLC技术在电镀生产线上的应用（研究生论文）； 浸渗线自动控制系统研究（研究生论文）； 《可编程控制器原理及应用》清华大学出版社 路林吉； 《可编程序控制器的系统设计与应用实例》机械工业出版社 皮壮行； 《现场总线技术及其应用》清华大学出版社 阳宪惠； 《智能控制理论和方法》西安电子科技大学出版社 李人厚； 《现代控制理论》哈尔滨工业大学出版社 于长官； 用PLC实现的磁溅式真空镀膜机控制系统.南华大学学报徐祖华，王彦，雷运喜.，2003，9(3):59一61 课题的意义及我国在这方面已进行的工作情况： 在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其沉积在被涂覆的物体上的方法成为真空镀膜法。在材料表面上，镀上一层薄膜，就能使该种材料具有许多物理和化学性能。过去在物体表面镀膜作为物体表面改性的一种方法，多采用湿式镀膜法，即电镀法和化学镀法。电镀法中被电解的离子镀到作为电解液另一个电极的基体表面上。因此这种镀膜的基体是导体，而且膜层的厚度难以控制；化学镀法是利用化学还原原理，使膜层厚度不均，而且会产生大量的废液造成公害。因此，他们在薄膜制备工艺上收到了很大的限制。真空镀膜法是一种新的镀膜工艺，由于薄膜制备工艺是在真空条件下进行的，因此称为真空镀膜法。在真空环境下制得的薄膜不易受污染，可以获得致密性好、纯度高、膜厚均匀的涂层；镀膜的过程中有很多种办法改变膜的厚度，可以制得各种不同用途的薄膜；另外用这种方法制得的薄膜附着性好，膜层牢固；不产生废液避免了对环境的污染。 磁控溅射镀膜在中国的应用起步较晚，且以单机镀膜为主，直到上世纪90年代后期，随着ITO导电玻璃生产向国内转移，这种基于PLC控制的自动镀膜生产线才开始在国内发展起来，并逐渐应用于其它行业，比如薄膜刀具、太阳能板等。 但目前在国内，除ITO行业能实现生产线镀膜外，应用于其他行业的大多数还是以单机镀膜为主。这主要是因为磁控溅射镀膜依靠的是辉光放电原理，而辉光放电只能在一定的真空环境下才能进行，真空度过高或过低，辉光放电都会消失，另一方面，放电气体的纯度，杂质气体的比例也会影响到膜层的质量。 与单机镀膜生产相比，生产线镀膜生产的关键是要解决以下几个方面的问题： 1） 真空度的稳定：生产线镀膜时，被镀膜件是连续不断地进出真空室并进行镀膜，也就是说，在生产过程中辉光放电和磁控溅射是连续进行的。所以，生产线镀膜的关键就是要确保镀膜件进出真空室是不能影响到镀膜室的真空度。 2） 传动的平稳性：一方面由于ITO导电玻璃的基片很薄，一般在0.5～1.1之间，如果在传递过程中出现较大的振动或连续振动，玻璃基片可能被振碎。另一方面，连接真空室之间的阀门宽度较小，基片架在穿过阀门是如果出现晃动，基片架就会与阀门相撞，轻者使玻璃因震动而破碎，重者则是基片架被卡在阀门上，从而使生产无法进行。此时则必须停机并打开真空室予以解决，这将浪费很多的时间和资源。 3） 速度均匀可调：ITO导电玻璃的重要性能指标包括导电电阻的大小和均匀性、膜厚的大小和均匀性、蚀刻时间的长短和一致性。这些性能不仅与溅射速率有关，还取决于玻璃移动的速度的大小和均匀性。也就是说，要获得高性能的导电玻璃，必须要找到传动速度和溅射速率的最佳匹配。 4) 传动件材料的出气率：磁控溅射镀膜依靠的是辉光放电原理，而辉光放电只能在一定的真空环境下才能进行，真空度过高或过低，辉光放电都会消失，另一方面，传动件材料的出气率又会影响到放电气体的纯度，杂质气体的比例也会影响到膜层的质量。所以，在设计传动方式时所选用的传动件材料和基片架的出气率一定要低于本底真空度，即在没有充气的情况下真空系统所能达到的最高真空度10-4 Torr。 5） 无润滑传动：在磁控溅射镀膜过程中，通常要对玻璃进行加热以提高膜层的附着力，常规的加热温度为400°左右。在这样的高温及真空环境下，是不可以使用液体润