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真空 镀膜设备及镀膜加工真空 镀膜工艺简介：真空 镀膜学名物理气相沉积(Physical Vapor Deposition， PVD)，表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、 离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积 金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、 陶瓷、 半导体、聚合物膜等。 九大类 镀膜产品，包括多弧离子 真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、 中频磁控真空镀膜设备、蒸发真空镀膜设备、光学真空镀膜设备、卷绕式真空镀膜设备、 DLC 真空镀膜机+工模具镀膜系列，AZO透明导电膜镀膜生产线和连续式磁控溅射镀膜生产线等。