场致发射材料的应用与发展解析.docVIP

场致发射材料的应用与发展 纪石，021131028，化学系 场致发射材料简介 场致发射材料就是在外加真空电场的作用下会释放出电子的材料。电子逃离物体表面受到向内的作用力，即表面势垒。假定材料中的电子分布服从费米-狄拉克统计，能量高于费米能级的电子数量几乎为零。若费米能级低于表面势垒则没有电子能够逃离物体的表面，费米能级与表面势垒之差值称为功函。若使电子逃离表面，一方面可以提高温度以提高费米能级克服功函，这就是常见的热阴极技术；另一方面可以外加真空电场，降低表面势垒，就是场致发射技术。 图1是某种场发射材料的发射电流-真空电压曲线[1]。由图中曲线可看出，当电压在很低时（60V），发射电流几乎为零，而且存在一个栅压阈值（～80V），当外加电压大于这个阈值时，发射电流急剧升高。栅压阈值随材料的不同而不同，是表图1某种场发射材料的i-v曲线 征场致发射材料的最重要的物理参数。几十年来，人们不断的发现与合成新的场致发射材料，都在追求着更低的栅压阈值。除此之外，材料的物理化学稳定性，加工方法，成本价格都在考虑之列。最早最常用的是具有常温抗氧化能力、高熔点的过度元素金属。 场致发射材料的应用 场致发射材料的主要应用方面有平板显示器以及其他需要电子发射器件的仪器，如电子显微镜等。在平板显示器上的应用甚至是带动了几乎全部的场致发射材