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非金属及其化合物 ———（一）;目 录 CONCENTS;01;一、二氧化硅和硅酸;二、硅酸盐;三、硅单质;（3）用途： ①作半导体材料晶体管、集成电路、硅整流器和太阳能电池等；;注意：SiO2与CO2的比较;02;一、二氧化硅和硅酸;一、二氧化硅和硅酸;例2．把26g含有SiO2和CaCO3固体在高温下加热至质量不再改变，冷却后称重为17.2g。 （1）写出有关的化学反应方程式 （2）求生成CO2的体积（标况） （3）求原混合物中所含SiO2的质量。 ;例2．把26g含有SiO2和CaCO3固体在高温下加热至质量不再改变，冷却后称重为17.2g。 （1）写出有关的化学反应方程式 （2）求生成CO2的体积（标况） （3）求原混合物中所含SiO2的质量。 【答案】（1）SiO2+CaCO3CaSiO3+CO2↑；CaCO3CaO+CO2↑ （2）4.48L （3）6g 注意：差量法;二、硅酸盐;二、硅酸盐;例5.氮化硅陶瓷（Si3N4）是一种高温陶瓷材料，它的硬度大、熔点高、化学性质稳定。工业上曾普遍采用高纯硅与纯氮在1300℃反应获得。 （1）写出工业上普遍制取氮化硅时的化学方程式____________________________________。 （2）下列有关氮化硅陶瓷的说法正确的是（ ） A．氮化硅陶瓷、碳化硅陶瓷等都属于结构高温陶瓷 B．氮化硅陶瓷具有较高的硬度和耐磨性及良好的导电性 C．氮化硅陶瓷可以用来制作发动机中的部件 D．氮化硅陶瓷具有抗化学侵蚀性和压电效应 （3）现用四氯化硅和氮气在氢气气氛保护下，加强热发生反应，可得较高纯度的氮化硅，该反应的化学方程式为__________________________________________________________。;例5．（1）3Si+2N2Si3N4。 （2）AC (3)3SiCl4 + 2N2 + 6H2 Si3N4 + 12HCl;三、硅单质;三、硅单质;例7．在半导体工业中，有一道工序叫烧氢。烧氢的工艺流程如图所示。工作时，是将石英管D出口处氢气点燃。半导体硅片、焊片和金属零件从石英管口送入加热区，在氢气还原气氛中加热使焊片熔化，将单晶硅与金属零件焊接在一起。焊接后再将零件拉至冷却区，冷却后取出。烧氢工艺中的氢气纯度要求极高，工业氢气虽含氢量达99.9%，但仍含有极微量的水蒸气和氧气，所以点燃氢气前应检验氢气的纯度。试回答下列问题。 （1??装置B的作用是____________；B中发生反应的化学方程式是_________________ （2）装置C中的物质是__________________；C的作用是_______________________。 （3）点燃氢气前将E（带导管胶塞）接在D的出口处，目的是___________________。 （4）装置A是安全瓶，可以防止氢气燃烧回火，引起爆炸，其中填充大量纯铜屑的作用是_______________________________________________________。;例8.;03;一、活泼的黄绿色气体——氯气;二、氯离子（Cl-）的检验;注意：（1）辨清液氯和氯水的区别：;04;一、氯水;一、氯水;例2.漂白粉在社会生活、工业生产中用途广泛，漂白粉除了具有漂白作用外，还能杀菌消毒。2003年抗“非典”期间，各商场漂白粉及其他漂白产品曾一度脱销。 （1）1998年，我国长江流域和松花江流域都发生了百年不遇的特大洪水。灾区人们的饮用水，必须用漂白粉等药品消毒后才能饮用，以防传染病发生，但瓶装漂白粉久置空气中会呈稀粥状而失效。试用化学方程式表示漂白粉在空气中易失效的原因是①________________；②__________________。 （2）已知浓盐酸和次氯酸钙能发生如下反应： Ca(ClO)2+4HCl(浓)==CaCl2+2Cl2↑+2H2O 用贮存很久的漂白粉与浓盐酸制得的氯气中，可能含有的杂质气体是（ ） ①CO2 ②HCl ③H2O ④O2 A.①②③ B.②③④ C.②③ D.①④;二、氯气;二、氯气;例4.【双选】氯气通入石灰乳制得漂白粉。其主要成份是Ca(OH)2·3CaCl(ClO)·nH2O,贮存过久的漂白粉与浓盐酸制得的Cl2中，可能含有的杂质气体是（ ） A．O2　　　 B．CO2　　　 C．HCl　　　 D．H2 例5.有不纯的氯化铜粉末13.5g（内含一种杂质）。当与足量的AgNO3溶液反应时，生成29gAgCl沉淀，则粉