实验一光学薄膜的制备.docxVIP

实验一光学薄膜的制备 余永刚电子141 201412040129 1.实验目的 掌握电子束蒸发镀膜机的使用方法 掌握光学薄膜的制备方法 乙实验设备与材料 电子束蒸发镀膜机 玻璃基片 SiO2 Ti3O5 实验原〕 实验原〕 （1）电子束蒸发镀膜机的工作原理 电子束蒸发镀膜机是一种普适镀膜机，用于镀制各种单层膜、多 层膜。可镀各种硬质膜、金属膜，如图所示。 0??????OO o O O O CT co图ZZ-800 0 ?????? OO o O O O CT co 图ZZ-800电子束蒸发镀膜机 电子朿镀膜机构成：电子束镀膜机主要包括真空镀膜室和真空抽 气系统。 真空镀膜室包括：电子枪、电阻加热蒸发器、圮圳、挡板、离子 源、基板架、电离规、热偶规、石英晶振片等组成； 真空抽气系统主要由扩散泵、罗茨泵、机械泵、阀门等组 成。 电了束镀膜机在薄膜制备中的作用：减少蒸发分了跟残余 气体分子的碰撞；蒸发分子在行进的路径中，他们中的一部分会被残 余气体分子碰撞而散乱］。 (C)电子束镀膜机的性能指标 ZZ-800电子束蒸发镀膜机也有许多的性能及要求，电子束镀膜机 要想正常的在规定范围内运转，则需满足下面表格中的规格指标。 表ZZ-800电子束蒸发镀膜机的规格指标 ZZ-800电子束蒸发镀膜机 规格指标 电子枪功率 5-10 KW 极限真空度 温度 105 Pa 温度变化 300 °C 圮堀数量 ±2 °C 控制系统 8 真空抽速 自动控制和手动控制 3 X 104 Pa/20 min (2)光学薄膜的原理 所谓光学薄膜的原理即镀膜的原理包括很多，其中有折射率、界 面反射、反射率公式、光是电磁波、电磁波的干涉等。 (1)折射率：用光在真空中的传播速度与光在介质中的传播速度 的比值n来表示介质材料的光学性质，这个n就是折射率。 光是一种波，那么光能够发生折射主要是因为介质的改变。 本次实验在玻璃基片上镀四层薄膜，膜层的折射率在界面可 以发生跃变，但在膜层内是连续的。这样使镀膜玻璃基片和 未镀膜玻璃基片的透明度产生较大差别。 界面反射：本次实验为镀四层薄膜，光波在透过每层膜的交 界面处时，都会有不同程度的反射光在交界面处的反射，实 际上是光与介质相互作用的结果。 、2 反射率公式： 5+直丿“2 反射率公式： 5+直丿 “2为不同介质中的折射率, 它们均为相对于真空的折射率。 图1 图1薄膜的多光束干涉 光是电磁波：通过实验我们知道 光具有波粒二象性，那么 光的反射和衍射实验均可以证明光的波动性。光是一种电磁 波。可以设想光源中的分了或原子被某种原因激励而振动, 这种振动导致分子或原子中的电磁场发生电磁振动。可以证 明，电场强度与磁场强度两者有单一的对应关系，同时在人 多光学现象中电场强度起主导作用，所以我们通常将电场振 动称为光振动，这种振动沿空间方向传播出去就形成了电磁 波。 （5）电磁波的干涉：电磁波的干涉实际上是电磁波相干叠加的结 果，镀膜会增加电磁波在空间某点的相干效果，产生增透或 增反作用。各种频率的电磁波在真空中的速度都是一样的。 但是在不同介质中，传播速率是不一样的。我们通常观察到 的光都是光源内大量分子或原子振动辐射出来的结果，而观 察不到其作为一种波动在传播过程中所能表现出来的特征 干涉、衍射和偏振等现象。这是因为实现光的干涉是 需要条件的，即只有频率相同、相位差恒定、振动方向一致 的两列光波才是相干光波，这样的两列波辐射到同一点上, 彼此叠加，产生稳定的干涉抵消（产生暗影），或者干涉加强 （产生比两束光能简单相加更强的光斑）图像，才是我们观察 到的光的干涉现象。如下图: 幕底/ K K —对于多层增透膜而言,根据菲涅尔系数递推法,我们可以将 幕底/ K K — 对于多层增透膜而言, 根据菲涅尔系数递推法, 我们可以将 单层膜的反射率的计算推广到多层膜上，首先从与基片相邻的底 层莫开始，将底层膜的两个界面等效成一个界面，依次往上递推 到膜系的顶层的第一个界面。如下图所示： 由下往上每两层薄膜等效为一层膜后，相应的改变其折射率 为等效折射率，产生等效分界面。最后得到多层膜的反射系数, 由于多层膜的等效折射率小于基片的折射率，所以镀膜后膜系的 反射率总小于未镀膜基片的反射率，因而镀膜后又增透的作用O 实验步骤 （1）开机 打开镀膜机电源、水源、高压气泵电源。在使用镀膜机之前，需 要对真空室内部进行清理，将蒸镀逸出的材料清理干净，保证本次实 验的膜层纯净度，同时也要将真空室门清理干净，使得人们能更加清 晰地看到镀膜进程的变化，清理所用到的仪器是带电清洗喷枪。 打开ZDF-X-LED复合真空计的开关，对仪器进行预热，减小室温 和蒸发温度的温度差，从而防止工件变形或裂开，预热时间一般为 20 min左右。 将超声清洗后的玻