单晶制备方法.docVIP

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  • 2019-07-20 发布于湖北
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直拉法制单晶硅和区熔法晶体生长 第一节 概述 多晶硅是单质硅的一种形态。熔融的单质硅在过冷条件下凝固时,硅原子以金刚石晶格形态排列成许多晶核,如这些晶核长成晶面取向不同的晶粒,则这些晶粒结合起来,就结晶成多晶硅。多晶硅可作拉制单晶硅的原料,多晶硅与单晶硅的差异主要表现在物理性质方面。例如,在力学性质、光学性质和热学性质的各向异性方面,远不如单晶硅明显;在电学性质方面,多晶硅晶体的导电性也远不如单晶硅显著,甚至于几乎没有导电性。在化学活性方面,两者的差异极小。多晶硅和单晶硅可从外观上加以区别,但真正的鉴别须通过分析测定晶体 的晶面方向、导电类型和电阻率等。 多晶硅由很多单晶组成的,杂乱无章的。单晶硅原子的排列都是有规律的,周期性的,有方向性。 当前生长单晶主要有两种技术:其中采用直拉法生长硅单晶的约占80%,其他由区溶法生长硅单晶。 采用直拉法生长的硅单晶主要用于生产低功率的集成电路元件。例如:DRAM,SRAM,ASIC电路。 采用区熔法生长的硅单晶,因具有电阻率均匀、氧含量低、金属污染低的特性,故主要用于生产高反压、大功率电子元件。例如:电力整流器,晶闸管、可关断门极晶闸管(GTO)、功率场效应管、绝缘门极型晶体管(IGBT)、功率集成电路(PIC)等电子元件。在超高压大功率送变电设备、交通运输用的大功率电力牵引、UPS电源、高频开关电源、高频感应加热及节能灯用高频逆变式电子镇

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