去除存储器硬盘基片CMP后表面污染物的新方法.pdf

李薇薇 去除存储器硬盘基片 后表面污染物的新方法 暋暋暋82 暋 CMP 去除存储器硬盘基片CMP后表面污染物的新方法 李薇薇 ( , ) 河北工业大学 天津 300130 [ ] ( ) , 摘 要 提出了硬盘在化学机械全局平整化加工 过程中污染物颗粒吸附在表面的机理 通过分析 暋暋 暋 暋 CMP 、 、 , , , 清洗中的润湿作用 分散作用 渗透作用和螯合作用 确定了清洗剂的主要成分 分析了聚醚类活性剂的特点 确 。 , 定了清洗剂中各成分的最佳配比 采用该方法能够有效去除硬盘CMP后表面的污染物 达到硬盘加工的工艺要 求。 [ ] ; ; ; ; 关键词 硬盘 聚醚类活性剂 污染物 清洗 暋 CMP [中图分类号] [文献标识码] [文章编号] ( ) TQ423.9 暋 暋 暋 A 暋 暋 暋 1001灢3660201003灢0082灢03 NewMethodaboutContaminantsRemovalforStoraeHardDiskafterCMP g LIWei灢wei ( , , ) HebeiUniversitofTechnolo Tianin300130 China y gy j [ ] Abstract暋Particleadsortionmechanisminthe rocessofCMPhasbeen utforwarded.Thefunctionsofwet p p p 灢 , , , tin disersion infiltrationandseuestration andthecharacteristicsofoletherhavebeenanalzed.Cleanercom o g p q p y y p灢 , nentshavebeenconfirmedb exerimentswhichcanremovecontaminantseffectivelandmeetthereuirementofhard y p y q disk rocessin. p g [ ] ; ; ; ; Kewords暋harddisk