纳滤清洗手册.docVIP

纳滤膜的污染及清洗方法 本文介绍了影响复合膜性能的常见污染物及其清洗方法，本文适用于4英寸、6英寸、8英寸及8.5英寸直径的纳滤膜组件。 注 1：在任何情况下不要让带有游离氯的水与复合膜元件接触，如果发生这种接触，将会造成膜元件性能下降，而且再也无法恢复其性能，在管路或设备杀菌之后，应确保送往纳滤膜元件的给水中无游离氯存在。在无法确定是否有游离氯时，应通过化验来确证。应使用亚硫酸氢钠溶液来中和残余氯，并确保足够的接触时间以保证反应完全。 注 2：在清洗溶液中应避免使用阳离子表面活性剂，因为如果使用可能会造成膜元件的不可逆转的污染。 纳滤膜元件的污染物 在正常运行一段时间后，纳滤膜元件会受到在给水中可能存在的悬浮物质或难溶物质的污染，这些污染物中最常见的为碳酸钙垢、硫酸钙垢、金属氧化物垢、硅沉积物及有机或生物沉积物。 污染物的性质及污染速度与给水条件有关，污染是慢慢发展的，如果不在早期采取措施，污染将会在相对短的时间内损坏膜元件的性能。 定期检测系统整体性能是确认膜元件发生污染的一个好方法，不同的污染物会对膜元件性能造成不同程度的损害。表1列出了常见污染物对膜性能的影响。 污染物的去除 污染物的去除可通过化学清洗和物理清洗来实现，有时亦可通过改变运行条件来实现，作为一般的原则，当下列情形之一发生时应进行清洗。 在正常压力下如产品水流量较正常值降低10-15%。 为了维持正常的产品水流量，经温度校正后的给水压力增加了10-15%。 产品水质降低10-15%，盐透过率增加10-15%。 使用压力增加10-15%。 纳滤各段间的压差增加明显（也许没有仪表来检测这一迹象）。 常见污染物及其去除方法： 碳酸钙垢 在阻垢剂添加系统出现故障时或加酸系统出现故障而导致给水PH值升高，那么碳酸钙就有可能沉积出来，应尽早发现碳酸钙垢沉淀的发生，以防止生长后的晶体对膜表面产生损伤，如早期发现碳酸钙垢，可以用降低给水 PH至3.0-5.0之间运行1-2小时的方法去除。对沉淀时间更长的碳酸钙垢，则应采用柠檬酸清洗液进行循环清洗或通宵浸泡。 注：应确保任何清洗液的PH不要低于2.0，否则可能会对纳滤膜元件造成损害，特别是在温度较高时更应注意，最高的PH不应高于11.0。可使用氨水来提高PH，使用硫酸或盐酸来降低PH值。 硫酸钙垢 清洗液2(参见表2)是将硫酸钙垢从纳滤膜表面去除掉的最佳方法。 金属氧化物垢 可以使用上面所述的去除碳酸钙垢的方法，很容易地去除沉积下来的氢氧化物(例如氢氧化铁)。 硅垢 对于不是与金属氧化物或有机物共生的硅垢，一般只有通过专门的清洗方法才能将他们去除，有关的详细方法请与我们联系。 有机沉积物 有机沉积物(例如微生物粘泥或霉斑)可以使用清洗液3去除，为了防止再繁殖，可使用经我们认可的杀菌溶液在系统中循环、浸泡，一般需较长时间浸泡才能有效，如纳滤装置停用超过三天时，最好采用适宜的杀菌剂进行消毒处理。 清洗液 清洗纳滤膜元件时建议采用表2所列的清洗液。确定清洗液前对污染物进行化学分析是十分重要的。对分析结果的详细分析比较，可保证选择最佳的清洗剂及清洗方法。应记录每次清洗时清洗方法及获得的清洗效果，为在特定给水条件下，找出最佳的清洗方法提供依据。 对于无机污染物建议使用清洗液1。对于硫酸钙及有机物建议使用清洗液2。对于严重有机物污染建议使用清洗液3。所有清洗液可以在最高温度为华氏104度(摄氏40℃)下清洗60分钟，所需用品量以每100加仑(379升)中加入量计，配制清洗液时按比例加入药品及清洗用水，应采用不合游离氯的纳滤产品水来配制溶液并混合均匀。 纳滤膜元件的化学清洗与水冲洗 清洗时将清洗溶液以低压大流量在膜的高压侧循环，此时膜元件仍装在压力容器内，而且需要用专门的清洗装置来完成该工作。 清洗纳滤膜元件的一般步骤： 用泵将干净、无游离氯的纳滤产品水从清洗箱(或相应水源)打入压力容器中并排放几分钟。 用干净的产品水在清洗箱中配制清洗液。 将清洗液在压力容器中循环1小时或预先设定的时间。对于8英寸或8.5英寸压力容器时，流速为35到40加仑／分钟(133到151升／分钟)，对于6英寸压力容器流速为15到20加仑／分钟(57到76升／分钟)，对于4英寸压力容器流速为9到10加仑／分钟(34到38升／分钟)。 清洗完成以后，排净清洗箱并进行冲洗，然后向清洗箱中充满干净的产品水以备下一步冲洗。 用泵将干净、无游离氯的产品水从清洗箱(或相应水源)打入压力容器中并排放几分钟。 在冲洗纳滤系统后，在产品水排放阀打开状态下运行纳滤系统，直到产品水清洁、无泡沫或无清洗剂(通常需15到30分钟)。 表1 纳滤膜污染特征及处理方法 污染物 一般特征 处理方法 钙类沉积物 (碳酸钙及磷酸钙类，一般发生于系统第二段) 脱盐率明显下降 系统压降增加 系统产水量