乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合物膜的结构与性能.pdfVIP

维普资讯 第 1期 高 分 子 学 报 No．1 l990年 2月 ACTA POLYMERICA S【NICA Feb．， l990 乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合物膜的结构与性能 颜文革 陈 捷 卢丽珍 王世才 (中国科学院长春应用化学研究所，长春) 摘 要 采甩外部 电极 电容耦舍 高频等离子体 装置对乙烯基三 甲基 硅烷 (VTMS) 进行等离子体聚合．甩 IR、XPS、PGClMS、X—ray、ESR和元素分析等方法 对聚合物结构进行表征 ，并推断聚合反应历程 ． 应用 TG 研 究聚合物 的热性 能．通过 X-ray证实聚合物为非晶结构．在无添加气体存在时聚合 ，XPS测 试 结果表 明产物 中有氧嵌入，且聚合物的 c／si出总的说来出单体的 Ctsl出 低 ．TG 的测试结果表 明聚合物膜具有优 良的热稳定性． 关键词 等离子体聚合、乙烯基三 甲基硅浣、IR、XPS 近年来，许多作者对有机硅化台物的等离子体聚合进行了研究．王世才等 研究了 六 甲基二硅氧烷 、八 甲基环 四硅氧烷的等离子体聚合 ；Akovali等 对六 甲基二硅氧烷等 离子体聚合进行了探讨；Sachdev 对等离子体淀积的有机硅薄膜进行了表征．但是，直 到现在还没有一位作者对 乙烯基三 甲基硅烷等离子体聚合进行较详细深入的研究．鉴于 有机硅化台物制备的等离子体聚合物膜具有连续、无孔、超薄、良好的热稳定性、绝缘性等 特点，有较大的应用价值．而材料性能的进一步改进有待于材料的化学结构、聚台历程 等基础研究工作的进展 ．本工作选用 VTMS为单体，深入地研究了放 电功率、单体压力 和等离子气体对聚台物膜结构和性能的影响． 实 验 部 分 单体 VTMS、氢气、氮气分别为 FlukaAG，Chem．Fabrik公司、辽宁抚顺氧气厂、 长春应用化学研究所、长春氧气厂产品，纯度分别为98为、99．99为、99．6为、99．9弗，它假 ● 均未作进一步精制，直接使用，在导入反应管前，通过冷冻减压进行充分脱气． 采用外部 电极 电容耦合高频等离子体装置进行聚合反应 ，RF频率为 13．56MHz． IR 测试采用 KBr压片法，在 PE-580B型红外光谱仪上进行；XPS测试的聚台物 膜淀积在铝箔上，XPS测试采用 LAB-MarkII型X-光 电子能谱仪，激发源为 MgKal， 2的x射线 (Ex一 1253．6eV)，聚合物 的 c／si比和 otsl比通过式 (Ac，。Isc，)， ‘1988年 5月 18日收到；本文为国家 自然科学基垒资助项 目 36 维普资讯 1期 颜文革等：乙烯基三 甲基硅烷等离子体聚合物胰的结构与性能 37 (s ／ssl)和 (AO ／so，)／(si／ssl)求得，其 中 为 XPS谱峰面积，S为灵敏 度因子，scIJ一 0．205、SSi2一 0．17、SO，一0．63；在 JMS-D100型气相色谱质谱联用仪 器上进行 PGC／MS测试，采用 SE-30色谱柱，柱温 40--200~0，裂解温度980(3；x—ray 和 ESR 测试分别在 D／maxIlBX-射线衍射仪和 JES—FE3AX 型电子 自旋共振仪上进 行；采用 1106型