VLSI设计基础复习资料...docVIP

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  • 2019-07-28 发布于浙江
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VLSI设计基础复习资料 为什么CMOS(含BiCMOS)工艺成为VLSI主流工艺?其最大特点是什么? 在微电子技术领域,集成电路的制造有两个主要的实现技术:双极技术与MOS技术。CMOS以其结构简单,集成度高,耗散功率小等优点,成为当今VLSI制造的主流技术。其最大特点是耗散功率小。 说明MOS器件的基本工作原理。它与BJT基本工作原理的区别是什么? MOS器件基于表面感应的原理,是利用垂直的栅压VGS实现对水平IDS的控制。它是多子(多数载流子)器件。用跨导描述其放大能力。 双极型晶体管(BJT)是利用发射结、集电结成的体内器件,由基极电流控制集电极电流的两种载流子均起作用的器件。用电流放大系数描述其放大能力。 为什么说硅栅工艺优于铝栅工艺? 硅栅工艺是利用重掺杂的多晶硅来代替铝做为MOS管的栅电极,使MOS电路特性得到很大改善,它使|VTP|下降1.1V,也容易获得合适的VTN值并能提高开关速度和集成度。硅栅工艺具有自对准作用,这是由于硅具有耐高温的性质。栅电极,更确切的说是在栅电极下面的介质层,是限定源、漏扩散区边界的扩散掩膜,使栅区与源、漏交迭的密勒电容大大减小,也使其它寄生电容减小,使器件的频率特性得到提高。另外,在源、漏扩散之前进行栅氧化,也意味着可得到浅结。铝栅工艺为了保证栅金属与漏极铝引线之间看一定的间隔,要求漏扩散区面积要大些。而在硅栅工艺中覆

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