氧分压对溅射氧化钒薄膜结构和透光性能的影响.pdf

激光与光电子学进展 51, 063101(2014) Laser Optoelectronics Progress ©2014《中国激光》杂志社 氧分压对溅射氧化钒薄膜结构和透光性能的影响 唐晓红 黄美东 杜 姗 刘春伟 高 倩 王小龙 张建鹏 杨明敏 天津师范大学物理与材料科学学院,天津300387 摘要 采用射频磁控溅射法，在K9抛光玻璃基底上沉积氧化钒（VOx）薄膜，研究在其他参数保持不变时氧分压参量 对薄膜的结构、表面质量及透光性能的影响。利用表面轮廓仪、X射线衍射仪、原子力显微镜及分光光度计分别对样 品的沉积速率、物相结构、表面形貌和紫外-近红外光透射率进行分析。结果表明，制备的VOx 薄膜的晶相随氧分压 不同发生改变，调整氧分压在可见-近红外光区域可获得弱吸收的光学膜，但氧分压过高只能获得低的薄膜沉积速 率，氧分压对薄膜表面粗糙度及晶体生长模式也有不同程度的影响。本文对实验结果进行了分析和讨论。 关键字 薄膜;氧化钒;射频磁控溅射;氧分压 中图分类号 O484 文献标志码 A doi:10.3788/LOP51.063101 InfluenceofOxygenPartialPressureonStructureandOptical TransmittanceofSputteredVanadiumOxideFilms TangXiaohong HuangMeidong DuShan LiuChunwei GaoQian WangXiaolong ZhangJianpeng YangMingmin CollegeofPhysicsandMaterialsScience,TianjinNormalUniverysity,Tianjin 300387,China Abstract VOx thinfilmsaredepositedonK9polishedglasssubstratebyRFmagnetronsputteringatvariousoxygen partialpressures.Thesurfaceprofilerisusedtomeasurethethicknessanddepositionrate,andtheXraydiffraction isemployedtodetectthecrystallinestructureofthefilms.Surfacemorphologyofthefilmsisobservedbyafomic forcemicroscopy(AFM).Transmittancespectraofthefilmsaremeasuredbythespectroscopyintherangefrom ultraviolettonearinfrared.ItisindicatedthattheVOx thinfilmstakeoncrystallinestatewithdifferentphases,and adjustingoxygenpartialpressurescangetopticalfilmswithweakabsorptionfromvisibletonearinfraredregion, buthighoxygenpartialpressuresgoagainstwithdepositionrateofthefilms.Oxygenpartialpressureshavethe influenceofdifferentdegreesonthesurfaceroughnessandcrystalgrowthpatternofthefilms. Keywords thinfilms;vanadiumoxide;RFmagnetronsputtering;oxygenpartialpressure OCIScodes 310.1860;310.6860;300.6550 1 引 言 [1-2