非分散性红外光法紫外光法萤光法NIEAA41374C.doc

PAGE 第 PAGE 1頁，共 NUMPAGES 8頁 排放管道中二氧化硫抽取式自動檢測方法－非分散性紅外光法、紫外光法、螢光法 中華民國98年3月16日環署檢字第0980022286B號公告 自中華民國98年6月15日起實施 NIEA A413.74C 方法概要 從排放管道中連續抽出氣體，引入非分散性紅外光（Nondispersive Infrared NDIR）、紫外光（Ultraviolet）或螢光（Fluorescence）分析儀內，以測定其中所含二氧化硫之濃度。 適用範圍 本方法適用於測定排放管道中二氧化硫，測定範圍依量測系統設定之全幅而定，全幅的選擇應視排氣中二氧化硫之濃度而定。如在任何時候量測之氣體濃度超過全幅時，則檢測結果應為無效。 干擾 排放管道中水分會使檢測結果產生誤差，在水分去除裝置前之採樣管及樣品管線需加熱避免水分冷凝以減低干擾。 設備及材料 本量測系統概圖如圖一，必要之要件如下： 氣體採樣管：採樣管材質可為玻璃、不銹鋼、鐵氟龍或相當材質。採樣管必須加熱以防止冷凝。 粒狀物過濾器：在管道內或可加熱（能防止水分冷凝）管道外過濾器，以防止粒狀物堆積在量測系統並延長組件之使用壽命。過濾器必須為和樣品氣體不反應之材質所製造，如硼矽或石英棉、玻璃纖維。 校正閥：三向閥或相當之組件，此裝置在校正模式時能防止樣品氣體導入量測系統，並可從採樣管出口導入校正氣體至量測系統。 樣品管線：可加熱（能防止水分冷凝）之不銹鋼或鐵弗龍管，從採樣管傳輸樣品氣體至水分去除裝置，必要時管線可以快速接頭連接。 水分去除裝置：以電子冷卻原理或半透膜原理去除水分之裝置，氣體分析儀可以在溼基測定氣體濃度時可不需要水分去除裝置，對這些分析儀需（1）加熱分析儀入口前之樣品管線及所有連結組件防止冷凝（2）使用適當方法測定含水量並校正至乾基氣體濃度。 樣品傳輸管線：不銹鋼或鐵弗龍管，從水分去除裝置傳輸樣品氣體至採樣幫浦、樣品流量控制及樣品氣體歧管。此管線不需加熱。 採樣幫浦：無漏式幫浦，將樣品氣體以足夠之流速通過系統使量測系統應答時間減到最小。幫浦可由任何不和樣品氣體反應之物質組成。 樣品流量控制：含控制閥及浮子流量計或相當之裝置，維持採樣流量固定在 ± 10% 以內。（檢驗員可選擇安裝一背壓調節閥（Back-pressure regulator）以維持樣品氣體歧管在固定壓力做為保護分析儀避免壓力過大，使需要之流量調整減至最少。） 樣品氣體歧管（Sample gas manifold）：使一部分樣品氣體轉向流至分析儀並將其餘的由旁路出口排出。樣品氣體歧管應可提供將校正氣體直接導入分析儀。樣品氣體歧管可由任何不和樣品氣體反應之物質組成。 氣體分析儀：以紅外光、紫外光或螢光為偵測器的自動分析儀器，可連續測定樣品氣體之二氧化硫濃度。分析儀性能規格必須能符合九、（二）之規範。分析儀應可提供控制分析儀氣體流量之工具及適合測定樣品氣體流量之裝置（如準確的浮子流量計、在流量控制器下游之壓力錶等）。將分析儀置於乾淨、熱穩定、無振動之環境可減少分析儀校正時之偏移。 紀錄器：選擇與分析儀可相容之紙帶紀錄器或數據擷取系統。 氣體稀釋器：可將高濃度標準氣體稀釋成所需之校正氣體（非必要之設備，如使用本設備應定期校正）。 試劑 零點標準氣體：不含任何可引起分析儀應答（Response）或可能與二氧化硫產生反應的物質之氮氣或空氣。 二氧化硫標準氣體：以氮氣或空氣充填之二氧化硫標準氣體，其品質須能追溯至國家或國際標準。製造商必須提供氣體認證濃度及保存期限，並在保存期限內使用。 高濃度校正氣體：濃度相當於全幅 80 至 100% 之校正氣體；亦可使用氣體稀釋器，以高濃度標準氣體配製。 中濃度校正氣體：濃度相當於全幅 40 至 60% 之校正氣體；亦可使用氣體稀釋器，以高濃度標準氣體配製。 其他濃度校正氣體：全幅 20%、40%、60%、80%、90%（或近似濃度）之校正氣體；亦可使用氣體稀釋器，以高濃度標準氣體配製。 中濃度確認氣體：來源或批次不同於校正氣體之標準氣體，濃度相當於全幅40至60%；亦可使用氣體稀釋器，以高濃度標準氣體配製。 採樣與保存 使用本方法時可能會有危險之氣體、動作或設備，分析人員應注意人員的安全，並確認操作環境之安全後執行檢測。 實際現場檢測時之儀器裝配如圖一所示，校正閥A係用來確認量測系統是否洩漏或污染，其位置應儘可能接近採樣管出口端。 採樣管須插入排放管道橫截面1/3至1/2位置，如排放管道直徑 2 m以上時須插入1 m 以上。 採樣管及水分去除裝置前之樣品管線需加熱至 120 ℃以上，以避免水分冷凝於採樣管路內。樣品氣體進入分析儀前應過濾，以除去排氣中之粒狀物。 採樣之流量應與採樣前校正儀器之流量一致，流量一般設定在0至1 L/min之間。 本方法