光电成像——非均匀性校正.ppt

3）在一定照度 与其校正值 下，第(i,j)个探测器单元的输出值 之间存在以下比例关系： 可求得 和 令 可简化为： 三点校正公式 其中，需要三个温度参考点图像，高温H，中温M，低温L。判断待校正图像的像素值范围，若小于中温M中对应像素位置的值，用上式。否则，用下式。 算法分析 由校正公式和算法示意图可以看出，两点定标线性校正算法侧重于从非均匀性产生的机理出发进行校正，它需要对两个定标点进行测量，对每个探测器单元得到两个校正参数。该算法不仅对偏置进行了校正，还对增益系数做了校正，校正的动态范围比一点定标线性校正算法明显增大。 如果探测器单元的响应具有较好的线性度时，通过两点定标线性校正算法来进行非均匀性校正，可以获得较好的校正效果，且在两个定标点上的校正效果最好。 该算法存储数据量和计算量都较小，对每个探测单元只需存储两个校正参数，完成一次乘法和加法，所以算法用软件或硬件都易于实现。 但两点定标线性校正算法是建立在“探测器单元响应为线性”这一假设的基础上的。在实际情况中，探测器单元的响应通常呈非线性，尤其在辐照度变化范围比较大时，其线性度就更差。因此采用两点定标线性校正算法必然引进误差和残余非均匀性 。 处的响应被映射到 有误差的显示输出 当使用线性算法时，在 代替了真实的显示输出 由图还可以看出，响应非线性造成的残余非均匀性与定标位置有很大关系，远离定标点的部分残余非均匀性较大。当我们将两个定标点的相对距离减小时，可以发现由线性近似造成的近似误差将相应减小。 因此，要进一步提高校正精度，可以通过在一定的响应范围内增加定标点数——即减小定标点之间的距离来实现，这就是多点定标线性校正方法。 其它基于辐射源的非均匀性校正算法 也有学者采用分段线性来实现了非均匀性校正，但其是利用最小二乘法来拟合校正直线的。分段线性是两点校正的扩展，校正点越多，校正精度越高，但同时计算量大大提高。 于是Schulz 等人提出了一种算法，该算法采用多个均匀辐射源并用一个多项式来拟合单个探测器单元的响应特性曲线。但是算法需要严格的IRFPA测试数据。 THANK YOU SUCCESS * * 可编辑 第6讲 非均匀校正 光电成像实时处理技术 第6讲 非均匀校正 光电成像实时处理技术 第6讲 非均匀校正 光电成像实时处理技术 第6讲 非均匀校正 光电成像实时处理技术 第6讲 非均匀校正 光电成像实时处理技术 第6讲 非均匀校正 光电成像实时处理技术 第6讲 非均匀校正 光电成像实时处理技术 第6讲 非均匀校正 光电成像实时处理技术 第6讲 非均匀校正 光电成像实时处理技术 第6讲 非均匀校正 光电成像实时处理技术 第6讲 非均匀校正 光电成像实时处理技术 第6讲 非均匀校正 光电成像实时处理技术 第6讲 非均匀校正 光电成像实时处理技术 第6讲 非均匀校正 光电成像实时处理技术 第6讲 非均匀校正 光电成像实时处理技术 第6讲 非均匀校正 光电成像实时处理技术 可编辑 第6讲 非均匀校正 光电成像实时处理技术 可编辑 第6讲 基于参考辐射源的非均匀性校正算法 ? 6.1 非均匀性校正原理 ? 6.2 基于参考辐射源的非均匀性校正 ? 6.3 一点校正算法 ? 6.4 两点校正算法 6.1 非均匀性校正原理 在红外焦平面阵列中，虽然每一个单元探测器的响应函数是一个非线性函数，但是在一个较小的工作范围内，探测器的响应曲线可以近似地看作为直线，且假定探测器的响应具有时间上的稳定性，则红外焦平面阵列中单个探测器的响应输出可以用一个线性方程来表示 阵列中探测器单元的坐标 在该照度下增益系数（或响应率） 入射到探测器单元上的辐照度 在该照度下偏置（或暗电流） 焦平面阵列的非均匀表现为各探测器单元之间 的差异。 和 IRFPA 探测器响应曲线的线性模型 非均匀性校正的基本设计思想： 和 对各探测器的两个参数 因此校正的关键就是精确地测量出 作归一化处理。 和 最直接的方法: 在两个不同的辐照度下 下测出 和 每个探测器单元的响应 。则有 和 联立，可得： 或 但是，这种方法校正的缺点： 辐照度和输出信号难以同时被精确地测量，而且定标辐射源不稳定的影响很大，所以实现起来很难。 于是人们就提出了多种基于参考辐射源的非均匀性校正算法。 6.2 基于参考辐射源的非均匀性校正算法 基本思想： 1）利用参考辐射源给红外焦平面阵列提供均匀的辐照度，对每个探测器单元的响应输出进行测量； 2）由此计算得出各探测器单元的校正参数； 3）当红外焦平面阵列接收到实际目标场景辐照度时，用各探测器单元的相应校正参数对其输出进行实时的校正。